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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0422331 (1995-04-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 0 |
In one aspect of the invention, a substrate such as a semiconductor cassette or other semiconductor wafer handling implement, is inserted into a chamber that is substantially isolated from a surrounding environment. A pressurized, and optionally purified, cleansing medium is directed against at leas
[ What is claimed:] [1.] A system for cleansing a substrate, comprising:a processing chamber dimensioned to receive a substrate;at least one cleansing medium applicator connectable to a supply of cleansing medium and disposed to direct cleansing medium under pressure at a substrate received within s
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