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Source for the generation of large area pulsed ion and electron beams 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-037/00
출원번호 US-0866551 (1997-05-30)
발명자 / 주소
  • Engelko Vladimir,RUX
  • Giese Harald,DEX
  • Muller Georg,DEX
  • Schalk Sven,DEX
  • Schultheiss Christoph,DEX
  • Wurz Hermann,DEX
출원인 / 주소
  • Forschungszentrum Karlsruhe GmbH, DEX
대리인 / 주소
    Bach
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 0

초록

In a source for the generation of large-area pulsed ion or electron beams from an anode discharge electrode which has openings receiving discharge electrodes forming a vacuum arc plasma source, the discharge is safely triggered by a load which determines the total current and which consists of a par

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A source for the generation of large area pulsed ion or electron beams, comprising: a vacuum containment, a vacuum arc plasma source with an expansion space and an extraction system disposed in said containment, said arc plasma source consisting of a predetermined arrange

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Hwang, Sung Wook; Lee, Do Haing; Shin, Chul Ho; Sun, Jong Woo, Apparatus and method for controlling ion beam.
  2. Makarov, Maxime, Device and method of supplying power to an electron source, and ion-bombardment-induced secondary-emission electron source.
  3. Schlitz, Daniel Jon, Electro-hydrodynamic gas flow cooling system.
  4. Sato,Takamasa, Electron beam generator for multiple columns.
  5. Schlitz,Daniel Jon, Ion generation by the temporal control of gaseous dielectric breakdown.
  6. Forbes Jones, Robin M., Ion plasma electron emitters for a melting furnace.
  7. Forbes Jones, Robin M.; Kennedy, Richard L., Melting furnace including wire-discharge ion plasma electron emitter.
  8. Forbes Jones, Robin M.; Kennedy, Richard L., Melting furnace including wire-discharge ion plasma electron emitter.
  9. Matthew J. Goeckner ; Charles E. Van Wagoner, Method and apparatus for eliminating displacement current from current measurements in a plasma processing system.
  10. Rueger,Neal R.; Sandhu,Gurtej S., Method and system for discretely controllable plasma processing.
  11. Kennedy, Richard L.; Forbes Jones, Robin M., Processes, systems, and apparatus for forming products from atomized metals and alloys.
  12. Schultheiss Christoph,DEX ; Engelko Vladimir,RUX ; Kraft Gerd,DEX ; Schumacher Gustav,DEX ; Muller Georg,DEX, Pulsed electron beam source and its use.
  13. Forbes Jones, Robin M.; Kennedy, Richard L.; Minisandram, Ramesh S., Refining and casting apparatus and method.
  14. Forbes Jones, Robin M.; Shaffer, Sterry A., Refining and casting apparatus and method.
  15. Forbes Jones, Robin M.; Shaffer, Sterry A., Refining and casting apparatus and method.
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