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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0908529 (1997-08-07) |
우선권정보 | JP-0208023 (1996-08-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 23 인용 특허 : 0 |
Mask holders are disclosed for holding a mask used during a microlithographic exposure. The mask holder comprises an outer frame and an inner frame. The outer frame contacts the periphery of a main surface of the mask to hold the mask. The inner frame is connected to the outer frame, and contacts an
[ What is claimed is:] [1.] A mask holder for holding a microlithography mask defining a pattern to be projection-transferred to a sensitive substrate, the mask comprising a periphery, an inner region, and a main surface, the mask holder comprising an outer frame and an inner frame connected to the
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