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Zener diode structure with high reverse breakdown voltage 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-029/861
  • H01L-031/107
출원번호 US-0724575 (1996-09-30)
발명자 / 주소
  • Chen Wayne T.
  • Teggatz Ross E.
  • Efland Taylor R.
출원인 / 주소
  • Texas Instruments Incorporated
대리인 / 주소
    Franz
인용정보 피인용 횟수 : 24  인용 특허 : 8

초록

A zener diode capable of breakdown at much higher voltages than in the prior art is fabricated by providing a semiconductor substrate of a first conductivity type having an opposite conductivity type first tank disposed therein. The first tank includes relatively lower and relatively higher resistiv

대표청구항

[ We claim:] [1.] A zener diode, comprising:a semiconductor substrate of first conductivity type and having a surface;a first tank of second conductivity type, opposite to said first conductivity type, disposed in said substrate; said tank including a relatively higher voltage portion and a relative

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Beasom James D. (Melbourne FL), Breakdown diode structure.
  2. Jimenez Jean (Voiron FRX), Buried avalanche diode having laterally adjacent semiconductor layers.
  3. Doluca Tunc (San Jose CA), Buried zener diode.
  4. Lesk Israel A. (Phoenix AZ) Pirastehfar Hassan (Mesa AZ), Field plate avalanche diode.
  5. Fujihira Tatsuhiko (Matsumoto JPX), High voltage semiconductor device.
  6. Prentice John S. (Palm Bay FL) Uscategui Gabriel J. (Melbourne FL), Method of fabricating low noise reference diodes and transistors.
  7. Jimenez Jean (Voiron FRX), Pad protection diode structure.
  8. Beasom James D. (Melbourne Village FL), Structure for high breakdown PN diode with relatively high surface doping.

이 특허를 인용한 특허 (24)

  1. Bulovic, Vladimir; Mandell, Aaron; Perlman, Andrew, Addressable and electrically reversible memory switch.
  2. Romas, Jr., Gregory G.; Oglesby, Jr., Darrel C., Buried Zener diode structure and method of manufacture.
  3. Dabral,Sanjay; Seshan,Krishna, Diode and transistor design for high speed I/O.
  4. Lin, Xin; Blomberg, Daniel J.; Yang, Hongning; Zuo, Jiang-Kai, Diodes with multiple junctions.
  5. Mandell, Aaron; Perlman, Andrew, Floating gate memory device using composite molecular material.
  6. Tsai Chin-Yu ; Efland Taylor R., Integrated circuit diode, and method for fabricating same.
  7. Chuang, Ming-Yeh, Making ESD diode with P-S/D overlying N-well and P-EPI portion.
  8. Krieger, Juri H.; Yudanov, Nikolai, Memory device.
  9. Krieger, Juri H.; Yudanov, Nikolai, Memory device.
  10. Krieger, Juri H.; Yudanov, Nikolai, Memory device.
  11. Krieger, Juri H.; Yudanoy, Nikolai, Memory device.
  12. Krieger, Juri H.; Yudanov, N. F., Memory device with a self-assembled polymer film and method of making the same.
  13. Krieger, Juri H.; Yudanov, Nikolai, Memory device with active and passive layers.
  14. Krieger, Juri H.; Yudanov, Nikolai, Memory device with active passive layers.
  15. Krieger, Juri H.; Yudanov, Nikolay F., Molecular memory cell.
  16. Krieger,Juri H; Yudanov,Nicolay F, Molecular memory cell.
  17. Bulovic, Vladimir; Mandell, Aaron; Perlman, Andrew, Molecular memory device.
  18. Kingsborough,Richard P.; Sokolik,Igor, Organic thin film Zener diodes.
  19. Aiello Natale,ITX ; La Barbera Atanasio,ITX, Protective integrated structure with biasing devices having a predetermined reverse conduction threshold.
  20. Bulovic, Vladimir; Mandell, Aaron; Perlman, Andrew, Reversible field-programmable electric interconnects.
  21. Bulovic,Vladimir; Mandell,Aaron; Perlman,Andrew, Reversible field-programmable electric interconnects.
  22. Khemka, Vishnu; Parthasarathy, Vijay; Zhu, Ronghua; Bose, Amitava; Roggenbauer, Todd C., Semiconductor component.
  23. Botula, Alan B.; Rassel, Robert M.; Shi, Yun; Stidham, Mark E., Semiconductor device including asymmetric lightly doped drain (LDD) region, related method and design structure.
  24. Botula, Alan B.; Rassel, Robert M.; Shi, Yun; Stidham, Mark E., Semiconductor device including asymmetric lightly doped drain (LDD) region, related method and design structure.
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