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Inflatable elastomeric element for rapid thermal processing (RTP) system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • A21B-002/00
  • L23L-014/00
출원번호 US-0895665 (1997-07-17)
발명자 / 주소
  • Aschner Helmut,DEX
  • Merkle Helmut,DEX
  • Walk Ulrich,DEX
  • Zernickel Dieter,DEX
출원인 / 주소
  • Steag-Ast, DEX
대리인 / 주소
    Hodgson
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 10

초록

A rapid thermal processing (RTP) chamber is disclosed, wherein a transparent plate and a body are sealed with a gas tight seal, and wherein the gas tight seal is activated by inflating an inflatable element.

대표청구항 ▼

[ We claim:] [1.] A rapid thermal processing (RTP) chamber, comprising;a body, anda plate held in close proximity to the body, at least a portion of the plate transparent to radiation from radiation sources of an RTP system, the plate forming a gas tight seal to the body, the gas tight seal activate

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Anderson Roger N. (San Jose CA) Deacon Thomas E. (San Jose CA) Carlson David K. (Santa Clara CA), Apparatus and method for substrate heating utilizing various infrared means to achieve uniform intensity.
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  2. Lei Lawrence C. (Cupertino CA) Perlov Ilya (Santa Clara CA) Littau Karl A. (Sunnyvale CA) Morrison Alan F. (San Jose CA) Chang Mei (Cupertino CA) Sinha Ashok K. (Palo Alto CA), Chemical vapor deposition chamber with a purge guide.
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  3. Kingsford Kenji A. (Devore CA) Martinez David R. (Corona CA), Fluid transport coupling.
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  4. Okase Wataru (Sagamihara JPX), Heat treatment apparatus.
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  5. Brors Daniel L. (Byron CA) Cook Robert C. (San Jose CA), Method and apparatus for cold wall chemical vapor deposition.
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  6. Warenback, Douglas H.; Rathmann, Thomas M.; Mirkovich, Ninko T., Plasma reactor chuck assembly.
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  7. Shimizu Hiroshi (Yokohama JPX), Radiant heating apparatus.
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  8. Gronet Christian M. ; Gibbons James F., Rapid thermal heating apparatus and method.
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  9. Moore Gary M. (Monte Sereno CA) Nishikawa Katsuhito (San Jose CA), Rapid thermal processing apparatus for processing semiconductor wafers.
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  10. Mirkovich Ninko T. (Novato CA) Zajac John (San Jose CA), Vacuum load lock apparatus.
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이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Aderhold, Wolfgang; Ranish, Joseph M.; Koelmel, Blake R., Apparatus and method for enhancing the cool down of radiatively heated substrates.
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  2. Fayfield Robert T. ; Schwab Brent, Apparatus for processing both sides of a microelectronic device precursor.
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  3. Chen Chao-Chen,TWX ; Chiu Wei-Kay,TWX, Baking of photoresist on wafers.
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  4. Graf, Ottmar; Grandy, Michael, Determining the position of a semiconductor substrate on a rotation device.
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  5. Morisaki, Eisuke; Kobayashi, Hirokatsu; Yoshikawa, Jun; Sawada, Ikuo; Kimoto, Tsunenobu; Kawamoto, Noriaki; Aketa, Masatoshi, Film deposition apparatus and film deposition method.
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  6. Powers John M., Heated chamber including an open wall with a gas curtain.
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  7. Titel, Don; Wheatley, Wayne W.; Sharpe, Todd W., Sealable surface method and device.
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  8. Yanagisawa, Yoshihiko; Tanabe, Mitsuro, Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method.
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