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System for stabilization of pressure perturbations from oxidation systems for treatment of process gases from semicondu 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F17D-003/00
  • F17D-001/20
  • G05D-007/00
  • B01J-008/00
출원번호 US-0659865 (1996-06-07)
발명자 / 주소
  • Carpenter Kent H.
출원인 / 주소
  • ATMI EcoSys Corporation
대리인 / 주소
    Hultquist
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 20

초록

A pressure damping system for damping pressure perturbations incident to switching of switchable flow control means in a fluid flow circuit. The pressure surge damping system comprises a throttle valve in the circuit, with the throttle valve and switchable flow control means being constructed and ar

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A pressure surge damping system for damping pressure perturbations incident to switching of cyclically switched flow control means in a fluid flow circuit, wherein the switching of the cyclically switched flow control means chances the direction or path of fluid flow in t

이 특허에 인용된 특허 (20)

  1. Bartholomew Lawrence D. (Santa Cruz CA) Gralenski Nicholas M. (Aptos CA) Richie Michael A. (Santa Cruz CA) Hersh Michael L. (Boulder Creek CA), Atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus.
  2. Sherman Robert C. (Austin TX), Baffle/settling chamber for a chemical vapor deposition equipment.
  3. Krusell Wilbur C. (San Jose CA) Garcia James P. (Sunnyvale CA) Dobkin Daniel M. (Sunnyvale CA) Walker Frederick F. (Ben Lomond CA) Casillas Jose F. (San Jose CA), Chemical vapor deposition of silicon dioxide using hexamethyldisilazane.
  4. Mahawili Imad (Sunnyvale CA), Chemical vapor deposition reactor and method of operation.
  5. Sarin Michael C. (Phoenix AZ), Closed loop method and apparatus for preventing exhausted reactant gas from mixing with ambient air and enhancing repeat.
  6. Palmer David W. (200 Berkeley Rd. North Andover MA 01845), Flow control system.
  7. Palmer David (200 Berkeley Rd. North Andover MA 02174), Flow control valve with venturi.
  8. Palmer David (200 Berkeley Rd. North Andover MA 02174), Flow regulator adaptable for use with exhaust from a process chamber.
  9. Palmer David (200 Berkeley Rd. North Andover MA 02174), Flow regulator adaptable for use with process-chamber air filter.
  10. Carr William J. (San Jose CA) Krummen Raymond S. (Los Gatos CA), Hydrodynamic fume scrubber.
  11. Bartholomew Lawrence D. (Santa Cruz County CA) Provancha Kenneth M. (Santa Cruz County CA) Kamian George (Santa Cruz County CA) DeDontney Jay B. (Santa Cruz County CA) McDaniel Gregory M. (Santa Cruz, Injector and method for delivering gaseous chemicals to a surface.
  12. Ewing James H. (Lexington MA), Liquid pump and vaporizer.
  13. Mayer Bruce E. (Soquel CA), Method for producing highly conductive and transparent films of tin and fluorine doped indium oxide by APCVD.
  14. Epstein Alan H. (Lexington) Greitzer Edward M. (Wayland) Gysling Daniel L. (West Newton) Dugundji John (Belmont) Guenette Gerald R. (Salem MA), Passive structural and aerodynamic control of compressor surge.
  15. Palmer David (200 Berkeley Rd. North Andover MA 02174), Process-chamber flow control system.
  16. Palmer David W. (200 Berkeley Rd. North Andover MA 01845), Process-chamber flow control system.
  17. Palmer, David W., Regulator adaptable for maintaining a constant partial vacuum in a remote region.
  18. Kamian George D. (Santa Cruz CA), Self cleaning flow control orifice.
  19. Palmer David W. (200 Berkeley Rd. North Andover MA 01845), System for controlling flow through a process region.
  20. Aiken John E. (Monroeville PA) Didycz William J. (Whitehall PA), Waste gas purification systems and methods.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Moore, Robert R.; Getty, James D.; Safiullin, Ravil, Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants.
  2. Floris J. Groeneveld NL, Electric actuator for fluid control valves.
  3. Kim, Myung-Kyu; Lee, Hyun-Ho, Liquid delivery system having safe unit and operating method thereof.
  4. Lane, John William; Gregor, Mariusch; Vukotic, Emir, Method and apparatus for dampening pressure fluctuations in a fluid delivery system.
  5. Moore,Robert R.; Getty,James D.; Safiullin,Ravil, Method for decomposition oxidation of gaseous pollutants.
  6. Yamada, Tomoyuki, Substrate processing apparatus and substrate processing method.
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