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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0543628 (1995-10-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 24 인용 특허 : 4 |
The present invention is directed to a device for heat treatment of objects. It comprises a susceptor for receiving an object in the form of a substrate and a gas mixture fed to the substrate for epitaxial growth of a crystal on said substrate by Chemical Vapor Deposition. The susceptor includes an
[ We claim:] [1.] A device for heat treatment of objects, comprising:a susceptor for receiving an object in the form of a substrate and a gas mixture fed to the substrate for epitaxial growth of a crystal on said substrate by Chemical Vapor Deposition;the susceptor including an inner wall and an out
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