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Polymer carrier gears for polishing of flat objects 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24B-007/22
출원번호 US-0848921 (1997-05-01)
발명자 / 주소
  • Popovich Dragan
  • Lombardi John Lang
  • Albrecht Edward Daniel
  • Mulligan Anthony Christopher
  • Artz Gregory John
출원인 / 주소
  • Advanced Ceramics Research, Inc.
대리인 / 주소
    Banner & Witcoff Ltd.
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 8

초록

A carrier is comprised of a thermoplastic polymer such as polyetheretherketone which is formed or fabricated as a uniform thickness, double sided flat sheet of material with wafer passages therethrough and gear teeth formed or fabricated around the peripheral edge thereof so as to be cooperative wit

대표청구항

[ It is claimed:] [9.] A method for polishing the opposite surfaces of a thin wafer of material comprising, in combination, the steps of:placing the wafer in a congruent shaped holding passage defined through a carrier gear of the type comprising a sheet of single layer, uniform thickness thermoplas

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Kinumura Akira (Nara JPX) Koretomo Katsuhiko (Takatsuki JPX) Yura Shuichi (Nakama JPX) Kuwano Tatsuhiko (Osaka JPX) Kimura Tsuguji (Soka JPX), Carrier for supporting workpiece to be polished.
  2. Scherrer ; Raymond E., Method and apparatus for lapping or polishing materials.
  3. Winings Richard H. (Berks County PA), Removably holding planar articles for polishing operations.
  4. Olmstead Dennis L. (Sherman TX), Semiconductor wafer polishing using a hydrostatic medium.
  5. Karlsrud Chris E. (Chandler AZ), Uniform velocity double sided finishing machine.
  6. Molinaro James (Coplay PA) Stupp Eric (Bernville PA), Wafer carrier holder for wafer carriers.
  7. Karlsrud Chris E. (Chandler AZ) Van Woerkom Anthony G. (Chandler AZ) Odagiri Shigeru (Yokohama JPX) Nagahashi Isao (Fujisawa JPX), Wafer polishing method and apparatus.
  8. Budinger William D. (16 Southridge Rd. Kennett Square PA 19348), Workpiece holder for polishing operation.

이 특허를 인용한 특허 (16)

  1. Pietsch, Georg; Kerstan, Michael; aus dem Spring, Heiko, Carrier, method for coating a carrier, and method for the simultaneous double-side material-removing machining of semiconductor wafers.
  2. Duescher, Wayne O., Fixed-spindle and floating-platen abrasive system using spherical mounts.
  3. Duescher, Wayne O., Fixed-spindle floating-platen workpiece loader apparatus.
  4. Glenn A. Pomerantz, Lapping and polishing fixture having flexible sides.
  5. Fletcher, Timothy D.; Christianson, Todd J.; Romero, Vincent D.; Sventek, Bruce A., Lapping carrier and method.
  6. Fletcher, Timothy D.; Christianson, Todd J.; Romero, Vincent D.; Sventek, Bruce A., Lapping carrier and method.
  7. Grabbe, Alexis; Bjelopavlic, Mick; Hull, Ashley S.; Haler, Michele L.; Zhang, Guoqiang (David); Erk, Henry F.; Xin, Yun-Biao, Method and apparatus for processing a semiconductor wafer using novel final polishing method.
  8. Todd Andres, Molded non-abrasive substrate carrier for use in polishing operations.
  9. Brian D. Goers, Process and apparatus for polishing a workpiece.
  10. Togawa, Tetsuji; Noji, Ikutaro; Namiki, Keisuke; Yasuda, Hozumi; Kojima, Shunichiro; Sakurai, Kunihiko; Takada, Nobuyuki; Nabeya, Osamu; Fukushima, Makoto; Takayanagi, Hideki, Substrate holding apparatus.
  11. Duescher, Wayne O., Three-point fixed-spindle floating-platen abrasive system.
  12. Duescher, Wayne O., Three-point spindle-supported floating abrasive platen.
  13. Bjelopavlic,Mick; Grabbe,Alexis; Haler,Michele; Ragan,Tracy M., Wafer carrier.
  14. Andres,Todd E., Wafer carrier wear indicator.
  15. Takaishi, Kazushige; Takanashi, Keiichi; Taniguchi, Tetsurou; Ogata, Shinichi; Mikuriya, Shunsuke, Wafer polishing method.
  16. Duescher, Wayne O., Workpiece spindles supported floating abrasive platen.
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