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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0650998 (1996-05-21) |
우선권정보 | JP-0148061 (1995-05-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 152 인용 특허 : 3 |
At first, a semiconductor wafer is held and rotated by a spin chuck, and supplied with a hydrofluoric acid solution from a chemical liquid nozzle to remove natural oxide films on the wafer. Then, the wafer is supplied with pure water for rinsing it from a rinsing nozzle while the wafer is rotated. R
[ What is claimed is:] [1.] A spin cleaning method comprising:an attaching step of attaching a target substrate having a surface to a rotatable spin chuck having a plurality of first clamp fingers to engage with a side of the substrate and fix the substrate;a chemical liquid treatment step of supply
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