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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0895452 (1997-07-16) |
우선권정보 | FR-0009177 (1996-07-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 21 |
Process for the purification of a chemically inert gas, containing at least one of the O.sub.2 and/or CO impurities, from at least one of the impurities, characterized in that:
[ I claim:] [1.] Process for the purification of a chemically inert gas to be purified, containing at least one of O.sub.2 and CO as impurities, from at least one of the impurities, which comprises:a) passing the gas to be purified through an adsorbent comprising a mixed oxide of at least two transi
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