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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0911118 (1997-08-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 6 |
A process for the production of trifluoroethylene (i.e., CF.sub.2 =CHF or HFC-1123) is disclosed. The process involves contacting (in the vapor phase) at least one halogenated ethane of the formula CF.sub.3 CClFX (where X is H, Cl or F) with hydrogen in the presence of a catalyst including at least
[ We claim:] [1.] A process for the production of trifluoroethylene, comprising:contacting in the vapor phase at least one halogenated ethane of the formula CF.sub.3 CClFX where X is selected from the group consisting of H, Cl and F, with hydrogen in the presence of a catalyst comprising at least on
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