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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0855736 (1997-05-09) |
우선권정보 | JP-0289786 (1996-10-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 107 인용 특허 : 1 |
Apparatus and methods are disclosed for inspecting masks, reticles, and other patterned samples used in microlithography. The apparatus and methods are useful for detecting, at high speed and high accuracy, any defects in the pattern defined by the sample. Multiple charged-particle beams (e.g., elec
[ What is claimed is:] [1.] An apparatus for detecting defects in a pattern on a sample, comprising:(a) a charged-particle-beam optical system for irradiating multiple charged-particle beams on respective loci in an irradiation region of a surface of the sample so as to cause release of secondary ch
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