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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0689930 (1996-08-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 375 인용 특허 : 8 |
The polishing pad for a chemical mechanical polishing apparatus and a method of making the same. The polishing pad has a covering lawyer with a polishing surface and a backing layer which is adjacent to the platen. A first opening in the covering layer with a first cross-sectional area and a second
[ What is claimed is:] [1.] A polishing pad for a chemical mechanical polishing apparatus, comprising:an article having a polishing surface;an aperture formed in this article, the aperture including a first section with a first dimension and a second section with a second, different dimension; anda
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