최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0768709 (1996-12-18) |
우선권정보 | KR-0065736 (1995-12-29) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 9 |
A wafer cleaning apparatus includes at least one nozzle fixing tube disposed in a wall of a cleaning bath. A plurality of injection nozzles are arranged on the nozzle fixing tube for spraying a compressed cleaning solution toward the wafer. A rotating device rotates the at least one nozzle fixing tu
[ What is claimed is:] [7.] A method of cleaning a wafer using rotating cleaning solution injection nozzles, the method comprising the steps of:receiving a wafer in a cleaning bath having a plurality of openings through which a cleaning solution may be supplied thereto or drained therefrom;supplying
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.