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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0584813 (1996-01-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 44 |
Fabrication of support structures for use in field emitter displays through a photolithographic process that involves (1) depositing a photolithable material on a substrate, (2) etching the material to create column areas in the material, (3) filling the column areas with a support material, (4) pla
[ What is claimed is:] [1.] A process for the formation of FED support structures, the process comprising:forming a first material on a substrate in a single layer;forming openings in the first material to expose portions of the substrate;providing a second material in the openings and over the firs
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