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Method of manufacturing rigid floating microstructure elements and a device equipped with such elements 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/00
출원번호 US-0676631 (1996-07-10)
우선권정보 FR-0008525 (1995-07-13)
발명자 / 주소
  • Vilain Michel,FRX
출원인 / 주소
  • Commissariat a l'Energie, FRX
대리인 / 주소
    Burns, Doane, Swecker & Mathis LLP
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 15

초록

This method of manufacturing at least one element of a microstructure (104, 116) in a substrate including a stacking of a support layer (100), a layer (102) of sacrificial material and a structure layer (104) comprises the following steps:

대표청구항

[ I claim:] [1.] A method of manufacturing at least one rigid floating microstructure element machined in a substrate comprising a stacking of a support layer, at least one first sacrificial material layer and at least one first so-called structure layer, characterised in that it comprises the follo

이 특허에 인용된 특허 (15)

  1. Mitchell Alan W. (Rio Rancho NM) Ning Yuebin B. (Edmonton CAX) Tait R. Niall (Edmonton CAX), Fabrication of a surface micromachined capacitive microphone using a dry-etch process.
  2. Zanini-Fisher Margherita ; Visser Jacobus, High sensitivity, silicon-based, Microcalorimetric gas sensor and fabrication method.
  3. Hornbeck Larry J. (Van Alstyne TX), Infrared detector.
  4. Leblanc ; Jacques ; Dambier ; Gerard ; Coron ; Noel ; Moalic ; Jean-Pier re, Liquid helium-cooled bolometer wherein the sensitive element and the elements linking the latter to the electrical conn.
  5. Manaka Junji (Tokyo JPX), Method of etching silicon substrate at different etching rates for different planes of the silicon to form an air bridge.
  6. Li Guang Xuan ; Zhang Zuoying Lisa ; Shemansky ; Jr. Frank A., Method of fabricating a sensor.
  7. Harada Kenichi,JPX ; Kuragaki Takeshi,JPX ; Ishihara Osamu,JPX ; Sato Kazuhiko,JPX ; Kudo Akiyoshi,JPX, Method of fabricating thin film piezoelectric device.
  8. Zhang Z. Lisa (Ithaca NY) MacDonald Noel C. (Ithaca NY), Method of forming compound stage MEM actuator suspended for multidimensional motion.
  9. Tsuzuki Mitsuo (Tokyo JPX) Suga Michihisa (Tokyo JPX), Method of manufacturing valve element for use in an ink-jet printer head.
  10. Diem Bernard (Chirolles FRX) Delaye Marie-Therese (Grenoble FRX), Process for the production of accelerometers using silicon on insulator technology.
  11. Moret Jean-Marc (Cortaillod CHX), Process of fabricating an enlongated microstructure element on a substrate.
  12. Zavracky Paul M. (Norwood MA) Morrison ; Jr. Richard H. (Taunton MA), SOI diaphragm sensor.
  13. Liddiard Kevin C. (Adelaide AUX), Semiconductor film bolometer thermal infrared detector.
  14. Xiang-Zheng Tu (Department of Electrical Engineering ; University of Pennsylvania ; 200 S. 33rd St. Philadelphia PA 19104-6390) Yun-Yan Li (14 Beihehutong Congcheuggu Beijing CNX), Silicon diaphragm piezoresistive pressure sensor and fabrication method of the same.
  15. Keenan William F. (Plano TX), Uncooled infrared detector and method for forming the same.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Vilain,Michel, Electronic detection device and detector comprising such a device.
  2. Meijer Petrus M.,NLX ; Manders Bartholome S.,NLX, Method of manufacturing an electronic device comprising two layers of organic-containing material.
  3. Kimura, Hajime, Method of manufacturing semiconductor device.
  4. Ionescu, Adrian C.; Howard, Philip Earl, Pixel structure and an associated method of fabricating the same.
  5. Yamaguchi, Mayumi; Izumi, Konami, Semiconductor device and manufacturing method thereof.
  6. Yamaguchi, Mayumi; Izumi, Konami, Semiconductor device and manufacturing method thereof.
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