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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0917177 (1997-08-25) |
우선권정보 | JP-0249873 (1995-09-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 53 인용 특허 : 10 |
A light absorptive antireflector comprising a substrate, a light absorbing film formed on the substrate and a silica film formed on the light absorbing film, to reduce reflection of incident light from the silica film side, wherein the geometrical film thickness of the light absorbing film is from 5
[ What is claimed is:] [1.] A light absorptive antireflector comprising a substrate, a single light absorbing film, wherein the light absorbing film is formed on the substrate, and a silica film formed on the light absorbing film, to reduce reflection of incident light from the silica film side,wher
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