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High pressure liquid/gas storage frame for a pressurized liquid cleaning apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • D06F-029/00
출원번호 US-0998289 (1997-12-24)
발명자 / 주소
  • Kegler Andrew
  • Malchow Gregory L.
  • Harris Stephen L.
대리인 / 주소
    Leydig, Voit & Mayer, Ltd.
인용정보 피인용 횟수 : 20  인용 특허 : 6

초록

A pressure vessel for receiving and storing pressurized fluid in a pressurized dense phase liquid dry cleaning apparatus is provided. The dry cleaning apparatus generally includes a cleaning vessel within which garments or the like are cleaned and a solvent recovery device which takes the contaminat

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] An apparatus for removing a contaminant from a substrate using a pressurized cleaning fluid comprising, in combination:a substrate cleaning vessel having an inlet for introducing substantially uncontaminated pressurized cleaning fluid and an outlet for removing a solution

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Gray Donald J. (9 McGraw Ct. East Greenwich RI 02818) Gebhard Peter T. E. (335 Valley St. Providence RI 02908), Cleaning method and system.
  2. Gray Donald J. (East Greenwich RI) Gebhard ; III Peter T. E. (Providence RI), Dry cleaning and degreasing system.
  3. Purer Edna M. (Los Angeles CA) Wilkerson Angela Y. (Los Angeles CA) Townsend Carl W. (Los Angeles CA) Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA), Dry-cleaning of garments using gas-jet agitation.
  4. Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA) Stanford Thomas B. (San Pedro CA) Purer Edna M. (Los Angeles CA) Wilkerson Angela Y. (Inglewood CA), Dry-cleaning of garments using liquid carbon dioxide under agitation as cleaning medium.
  5. Privat Michel (6 ; rue Monsigny 75002 Paris FRX), Installation for cleaning clothes and removal of particulate contaminants especially from clothing contaminated by radio.
  6. Becker Sylvester J. (633 Washington Ave. East Alton IL 62024), Portable wash stand.

이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. Yokomizo,Kenji, Apparatus and method of securing a workpiece during high-pressure processing.
  2. Brainard, David E.; McClain, James B.; Cole, Michael E.; Worm, Steve L., Apparatus and methods for conserving vapor in a carbon dioxide dry cleaning system.
  3. Uhlin, G?ran, Apparatus for cleaning textiles with a densified liquid treatment gas.
  4. Brainard, David E.; McClain, James B.; Cole, Michael E.; Worm, Steve L., Apparatus for conserving vapor in a carbon dioxide dry cleaning system.
  5. Brainard, David E.; McClain, James B.; Cole, Michael E.; Worm, Steve L., Apparatus for conserving vapor in a carbon dioxide dry cleaning system.
  6. Worm,Steve Lee; McClain,James B., Cleaning apparatus having multiple wash tanks for carbon dioxide dry cleaning and methods of using same.
  7. Jones,William Dale, Control of fluid flow in the processing of an object with a fluid.
  8. Sheydayi,Alexei; Sutton,Thomas, Gate valve for plus-atmospheric pressure semiconductor process vessels.
  9. Jones, William D., High pressure fourier transform infrared cell.
  10. Biberger,Maximilian A.; Layman,Frederick Paul; Sutton,Thomas Robert, High pressure processing chamber for semiconductor substrate.
  11. Jones,William Dale, High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer.
  12. Jones,William Dale, High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer.
  13. Goshi,Gentaro, Method and apparatus for cooling motor bearings of a high pressure pump.
  14. Uhlin, G?ran, Method for cleaning textiles with a densified liquid treatment gas.
  15. Biberger,Maximilian Albert; Layman,Frederick Paul; Sutton,Thomas Robert, Method of supercritical processing of a workpiece.
  16. David E. Brainard ; James B. McClain ; Michael E. Cole ; Steve L. Worm, Methods and apparatus for conserving vapor and collecting liquid carbon dioxide for carbon dioxide dry cleaning.
  17. Worm, Steve Lee; McClain, James B., Methods of coating articles using a densified coating system.
  18. Wuester,Christopher D., Process flow thermocouple.
  19. McClain James B. ; Brainard David E. ; Cole Michael E. ; Worm Steve L., System for the control of a carbon dioxide cleaning apparatus.
  20. Jacobson,Gunilla; Yellowaga,Deborah, Treatment of a dielectric layer using supercritical CO.
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