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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0401229 (1995-03-09) |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 193 인용 특허 : 25 |
A technique and apparatus is disclosed for the optical monitoring and measurement of a thin film (or small region on a surface) undergoing thickness and other changes while it is rotating. An optical signal is routed from the monitored area through the axis of rotation and decoupled from the monitor
[ I claim:] [7.] In a chemical mechanical polishing device for planarizing a film on a substrate comprising a polishing table, the improvement comprising(i) a bifurcated fiber-optic cable having a common leg and two bifurcated legs,(ii) a rotating fiber-optic cable with two ends,(iii) a light source
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