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Detergent composition for removing resinous stains 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/04
  • C11D-001/72
  • C11D-003/04
  • C11D-003/20
출원번호 US-0004285 (1998-01-08)
우선권정보 JP-0014477 (1997-01-09)
발명자 / 주소
  • Kondoh Junji,JPX
  • Kashihara Eiji,JPX
출원인 / 주소
  • Kao Corporation, JPX
대리인 / 주소
    Birch, Stewart, Kolasch & Birch, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 7

초록

A detergent composition for removing resinous stains including (a) an aromatic compound represented by the general formula (1); and (b) an alkylene oxide compound represented by the general formula (2); and optionally including (c) an alkali metal hydroxide; and (d) water.

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A detergent composition for removing resinous stains comprising:(a) 50 to 95% by weight of an aromatic compound represented by the general formula (1): [ STR 5 ] wherein R.sup.1 is hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms; X is O, CH.sub.2 O, C.dbd.

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Totoki Takatoshi,JPX, Detergent composition.
  2. Michael Daniel W. (Cincinnati OH) Borcher ; Sr. Thomas A. (Cincinnati OH), Hard surface detergent compositions.
  3. Michael Daniel W. (Cincinnati OH) Bacon Dennis R. (Milford OH), Liquid hard surface detergent compositions containing beta-aminoalkanols.
  4. Michael Daniel W. (Cincinnati OH) Underwood David C. (Cincinnati OH) Dostie George E. (Cincinnati OH) Stiros Paul (Cincinnati OH), Liquid hard surface detergent compositions containing zwitterionic and cationic detergent surfactants and monoethanolami.
  5. Harbin Raymond H. (Livonia MI), Non-abrasive line cleaning composition.
  6. Ameen Joseph G. (Apalachin NY) Funari Joseph (Vestal NY) Poole Joseph D. (Charlotte NC) Sissenstein ; Jr. David W. (Endwell NY), Ozone safe stripping solution for thermal grease.
  7. Klier John (Midland MI) Strandburg Gary M. (Mount Pleasant MI) Tucker Christopher J. (Bay City MI), Translucent gel prespotting composition.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Michael Jolley, Cleaning solutions and methods for semiconductor wafers.
  2. Foster,Kathryn E., Coating removal compositions.
  3. Joshi, Nayan H.; Carver, Kerri Little; Patena, Thomas Anthony; Ringholz, Christopher George, Composition and method for removal of organic paint coatings from substrates.
  4. Habassi, Chefik; Parant, Bernard, Composition for cleaning soiled items, namely optical items, and method for cleaning said items.
  5. McKay, Jennifer; Cox, Charles K.; Wilson, Neil R., Flushing solutions for coatings removal.
  6. McKay,Jennifer; Cox,Charles K.; Wilson,Neil R., Flushing solutions for coatings removal.
  7. Wilson,Neil R., Flushing solutions for coatings removal.
  8. Nguyen,Philip D.; Weaver,Jimmie D.; Barton,Johnny A., Methods and compositions for removing resin coatings.
  9. Kinnaird, Michael Gates; Rigsbee, David Linith, Sodium-free, lithium-containing concrete cleaning compositions and method for use thereof.
  10. Toshiyuki Yano JP; Hiromi Nagai JP; Ken Hashimoto JP; Naoki Morita JP, Washing solution for ink jet head, method for producing the same, and method for washing ink jet head using the same.
  11. Wilson, Neil R., Water-based paint-removing solution.
  12. Wilson,Neil R., Water-based paint-removing solution.
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