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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0003461 (1998-01-06) |
우선권정보 | JP-0014634 (1997-01-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 9 |
The method for producing a bulk silica porous material is presented. The obtained material has a large crystal size serving to reduce light scattering, and uniform and adjustable pore size. This can be utilized for optical and electronic functional materials. The method comprises the steps of:
[ What is claimed is:] [1.] A bulk porous silica material comprising:a silica crystal wherein the silica crystal has a size within 0.1 mm to 10 mm; andlinear pores having a uniform pore size,the pore size of the maximum peak in the pore size distribution curve being within the range from 1 to 10 nm,
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