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Transparent bulk silica porous material with uniform pore size and distribution 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B32B-003/12
출원번호 US-0003461 (1998-01-06)
우선권정보 JP-0014634 (1997-01-10)
발명자 / 주소
  • Sugimoto Noriaki,JPX
  • Inagaki Shinji,JPX
  • Fukushima Yoshiaki,JPX
  • Hioki Tatsumi,JPX
  • Ogawa Makoto,JPX
출원인 / 주소
  • Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho, JPX
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 9

초록

The method for producing a bulk silica porous material is presented. The obtained material has a large crystal size serving to reduce light scattering, and uniform and adjustable pore size. This can be utilized for optical and electronic functional materials. The method comprises the steps of:

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A bulk porous silica material comprising:a silica crystal wherein the silica crystal has a size within 0.1 mm to 10 mm; andlinear pores having a uniform pore size,the pore size of the maximum peak in the pore size distribution curve being within the range from 1 to 10 nm,

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Pinnavaia Thomas J. (East Lansing MI) Tanev Peter T. (East Lansing MI), Crystalline silicate compositions and method of preparation.
  2. Beck Jeffrey S. (Princeton NJ), Method for synthesizing mesoporous crystalline material.
  3. Raman Narayan K. ; Brinker Charles Jeffrey, Molecular sieving silica membrane fabrication process.
  4. Inagaki Shinji (Aichi JPX) Fukushima Yoshiaki (Aichi JPX) Okata Akane (Aichi JPX) Kato Chuzo (Tokyo JPX) Kuroda Kazuyuki (Tokyo JPX), Porous material composed of layered silica and metal oxide and a process for manufacturing the same.
  5. Brinker C. Jeffrey ; Anderson Mark T. ; Ganguli Rahul ; Lu Yunfeng, Process to form mesostructured films.
  6. Olson David H. (Pennington NJ) Stucky Galen D. (Santa Barbara CA) Vartuli James C. (West Chester PA), Sensor device containing mesoporous crystalline material.
  7. Schwartz Jo-Ann T. (Chadds Ford PA), Silica microspheres, method of improving attrition resistance.
  8. Herron Norman (Wilmington DE) Wang Ying (Wilmington DE), Small-particle semiconductors in rigid matrices.
  9. Kuma Toshimi (Fukuoka JPX) Shirahama Noriaki (Ohnojo JPX), Total heat energy exchanger element preventing a transfer of odors and method of manufacturing same.

이 특허를 인용한 특허 (9)

  1. Landry, Christopher C.; Nassivera, Terry W., Mesoporous inorganic oxide spheres and method of making same.
  2. Mandal, Robert P., Mesoporous silica films with mobile ion gettering and accelerated processing.
  3. Karl W. Gallis ; Christopher C. Landry, Mesoporous silicates and method of making same.
  4. Navrotsky, Alexandra; Parikh, Atul Navinchandra, Methods for removing organic compounds from nano-composite materials.
  5. Wang, Shiho; Singh, Jaspal; Nair, Vinod M. P., Nanoporous materials and related methods.
  6. Yano, Kazuhisa; Sasaki, Yuri; Nakamura, Tadashi; Horii, Mitsumasa; Fukushima, Yoshiaki; Sato, Hideaki, Porous materials and methods for forming the same.
  7. Glazer, Marc I.; Fidanza, Jacqueline A.; McGall, Glenn; Frank, Curtis W.; Vinci, Richard, Porous silica substrates for polymer synthesis and assays.
  8. Takai, Osamu; Sugimura, Hiroyuki; Hozumi, Atsushi, Process for producing ceramic porous bodies having hollow structures at low temperatures.
  9. Coronado,Paul R., Rapid process for producing transparent, monolithic porous glass.
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