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Tungsten skeleton structure fabrication method employed in application of copper infiltration and tungsten-copper compo 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B22F-003/16
출원번호 US-0096741 (1998-06-12)
우선권정보 KR-0024736 (1997-06-14)
발명자 / 주소
  • Yoo Myoung Ki,KRX
  • Park Jong Ku,KRX
  • Hong Kyung Tae,KRX
  • Choi Ju,KRX
출원인 / 주소
  • Korea Institute of Science and Technology, KRX
대리인 / 주소
    Scully,Scott,Murphy Presser
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 7

초록

A tungsten skeleton structure fabrication method employed in an application of a copper infiltration and tungsten-copper composite fabrication method includes the steps of forming a source powder by coating the tungsten powder surface having a purity of 99.9 weight percent and 2.about.5 .mu.m in siz

대표청구항

[ What is claimed is:] [2.] A method for fabricating tungsten-copper composite comprising the steps of:forming a source powder by coating a tungsten powder surface having a purity of 99.9 weight percent and 2.about.5 .mu.m in size, with nickel by less than 0.06 weight percent (600 ppm);forming an ad

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Panicker Ramachandra M. P. (Camarillo CA) Agarwal Anil K. (Poway CA), Ceramic substrate with metal filled via holes for hybrid microcircuits and method of making the same.
  2. Oenning James B. (Camarillo CA) Clark Ian S. R. (San Diego CA), Copper-tungsten metal mixture and process.
  3. Ehlert Michael R. (Beaverton OR) Helderman Earl R. (Hillsboro OR), Heat sink device using composite metal alloy.
  4. Tsujioka Masanori (Hyogo JPX) Matsumura Junzoh (Hyogo JPX), Metal casing for semiconductor device having high thermal conductivity and thermal expansion coefficient.
  5. Amano Yoshinari (Itami JPX) Omati Masahiro (Itami JPX) Matsumura Junzo (Itami JPX), Method of producing a tungsten heavy alloy product.
  6. Kock Wulf (Markdorf DEX) Schmidberger Rainer (Markdorf DEX) Wagner Wolfgang (Weingarten DEX), Powder comprising coated tungsten grains.
  7. Osada Mituo (Itami JPX) Amano Yoshinari (Itami JPX) Ogasa Nobuo (Itami JPX) Ohtsuka Akira (Itami JPX), Substrate for semiconductor apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Li,Qingfa; Zhang,Su Xia; Ho,Meng Kwong, Production of composite materials by powder injection molding and infiltration.
  2. Winter, Matthias; Jäger, Harald, Radiation-emitting component provided with metallic injected-molded carrier.
  3. McCoy, John Washington, Semiconductor substrate having copper/diamond composite material and method of making same.
  4. Hong,Moon Hee; Choi,Ja Ho; Lee,Seoung; Kim,Eun Pyo; Lee,Sung Ho; Noh,Joon Woong, W-Cu alloy having homogeneous micro-structure and the manufacturing method thereof.
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