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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0605769 (1996-02-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 254 인용 특허 : 19 |
An in-situ method of measuring uniformity of a layer on a substrate during polishing of said layer, where the method includes the steps of directing a light beam toward the layer during polishing; monitoring an interference signal produced by the light beam reflecting off of the substrate; and compu
[ What is claimed is:] [1.] A substrate polishing system comprising:a platen which during processing holds a polishing pad;a polishing head which during processing holds the substrate against the polishing pad on the platen;an interferometer capable of generating a collimated light beam which during
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