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Polishing composition including water soluble polishing agent 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C09G-001/02
출원번호 US-0025535 (1998-02-18)
발명자 / 주소
  • Healy Denis J.
  • Kornhaber Harvey
  • Talwar Maharaj
출원인 / 주소
  • Turtle Wax, Inc.
대리인 / 주소
    Baker & McKenzie
인용정보 피인용 횟수 : 24  인용 특허 : 17

초록 ▼

An improved polishing composition is provided that includes an emulsion of a oil-based components and water-based components and a water soluble polishing agent. The polishing composition of the present invention is rubbed on a painted surface, hosed off with water and wiped or towel dried. Because

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A polishing composition comprising:a gloss agent including at least one amino functional silicone, at least one silicone oil and at least one curable silicone resin;a water soluble polishing agent;a surfactant selected from the group consisting of nonionic and anionic sur

이 특허에 인용된 특허 (17)

  1. Ellis Edward J. (Georgetown MA) Salamone Joseph C. (Marblehead MA), Abravise-containing contact lens cleaning materials.
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  2. Trifon George (743 Ridgeview Dr. Lilburn GA 30247), Automotive top coat restoring composition and process.
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  3. van der Linde Willem B. (Cherry Hill NJ), Car waxes with improved water-beading durability.
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  4. Falivene Pasquale J. (Union City NJ), Cleaning compositions.
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  5. Kornhaber Harvey (Palos Park IL) Heidel James P. (Downers Grove IL) Varga Stephen I. (Evanston IL), Clear cleaner/polish composition.
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  6. Martin Eugene Ray (Onsted MI), Detergent resistant polish compositions.
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  7. Dugan Bernard B. (Sandton ZAX), Detergent-scrubber article and method for manufacture.
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  8. Lohr Robert H. (Union Grove WI) Morgan Lee W. (Racine WI), Emulsion coating composition containing silicone and acrylic polymer.
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  9. Schumann Klaus (Erkrath DEX) Guirr Ortburg (Krefeld DEX) Schulz Paul (Wuppertal DEX) Foerg Franz (Langenfeld DEX), Multipurpose cleaning preparations for hard surfaces.
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  10. Liebowitz Marvin (Edison NJ) Brandli Eugene Howard (Somerset NJ), Polish.
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  11. Berlin David R. (Huntington CT) Rishel Bonnie A. (Yorktown Heights NY) Wolstoncroft Richard R. (Mt. Kisco NY), Polish composition forming hydrophilic layer and spray-away polishing process.
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  12. Cifuentes Martin E. (Midland MI) Selley David B. (Midland MI), Polish containing amine functional siloxane.
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  13. Svedas ; Stanley ; Shah ; Champak C., Polished composition containing microcrystalline wax.
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  14. Sejpka Johann (Marktl DEX) Wimmer Franz (Burghausen DEX) Schmidt Annemarie (Perach DEX), Polishes for hard surfaces.
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  15. Otsuki Masaaki (Isesaki JPX), Polishing agent composition.
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  16. Barletta Gualtiero (Rome ITX) Bianchi Antonio (Rome ITX), Process for manufacturing particulate detergent composition directly from in situ produced anionic detergent salt.
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  17. Ohara Sosaburo (Tokyo JPX) Ikeda Atsushi (Fujisawa JPX) Shinohara Seigo (Chigasaki JPX) Kijima Tetsuo (Fujisawa JPX), Spray Lustering-cleansing agent.
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이 특허를 인용한 특허 (24)

  1. Markevitch, Yuri; McMaster, Mark C.; Chang, Yu-En Percy, Apparatus and method for precise lapping of recessed and protruding elements in a workpiece.
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  2. Markevitch,Yuri; McMaster,Mark C.; Chang,Yu En Percy, Apparatus and system for precise lapping of recessed and protruding elements in a workpiece.
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  3. Anderson,Leslie C., CD cleaner and restorer composition and method.
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  4. Anderson,Leslie C., Combination cleaning and waxing composition and method.
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  5. Dunning, Brent R; Silvers, Gary M, Composition for washing and waxing a motor vehicle.
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  6. Keleher,Jason; Woodland,Daniel; De Rege Thesauro,Francesco; Medsker,Robert; Aggio,Jason, Compositions and methods for CMP of low-k-dielectric materials.
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  7. Miralles, Altony J.; Hoyt, Jerry D.; Ryther, Robert J., Detergent resistant car polish.
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  8. Miralles, Altony; Hoyt, Jerry; Ryther, Rob, Detergent resistant car polish.
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  9. Yasuyuki Suzuki JP; Tomohiro Kaku JP; Isao Saito JP; Kazuya Orii JP; Yasutoshi Fujita JP; Masao Yamaguchi JP; Masahiro Sasaki JP, Free abrasive slurry composition and a grinding method using the same.
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  10. Kazuya Orii JP; Isao Saito JP; Yasutoshi Fujita JP; Toshimichi Sakurada JP; Masao Yamaguchi JP, Lapping oil composition for finish-grinding.
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  11. Carl L. Naney, Metal cleaner-polish.
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  12. Ota, Katsuhiro; Saito, Akio, Method for polishing a semiconductor substrate member.
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  13. Kodate, Tadao, Plastic soft composition for polishing and for surface protective material application.
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  14. Chen Shih Yao,TWX, Polishing composition for leather.
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  15. Crissey,Gordon K., Polishing compound.
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  16. Ota, Katsuhiro; Saito, Akio, Polishing slurry.
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  17. Ota, Katsuhiro; Saito, Akio, Process for fabricating a semiconductor device.
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  18. Weberg,Rolf Thomas; Zhu,Shitong; Sanford,Timothy James; Simmons,Lawrence J., Protective surface modification system and application to substrates.
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  19. Serobian, Ashot K.; Ramachandran, Bhaskar, Silicone protectant compositions.
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  20. Hasinovic,Hida; Weinmann,Tara, Spray wax composition.
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  21. Serobian, Ashot, Sprayable dry wash and wax composition and method of using same.
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  22. Serobian,Ashot, Sprayable dry wash and wax composition comprising a silicone blend and acrylic-based polymer.
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  23. Picard Elisabeth,FRX ; Bui-Bertrand Lien,FRX, Two-phase cosmetic and/or dermatological composition which can be used in particular for removing make-up from the eyes.
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  24. Yarmey, Susan K.; Paiva, Adriana; Liu, Augustine C.; Baran, Jr., Jimmie R., Use of a silicone surfactant in polishing compositions.
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