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Cooling method, cooling apparatus and treatment apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F25B-021/02
출원번호 US-0041449 (1998-03-12)
우선권정보 JP-0076685 (1997-03-13)
발명자 / 주소
  • Tateyama Kiyohisa,JPX
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited, JPX
대리인 / 주소
    Foley & Lardner
인용정보 피인용 횟수 : 28  인용 특허 : 6

초록 ▼

An apparatus is provided with a cooling unit for cooling a treatment substrate, a supporting body for supporting the treatment substrate before being transferred to the cooling unit and a cooling apparatus for cooling the treatment substrate supported by the supporting body. The apparatus cools the

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A method of cooling a treatment substrate comprising the steps of:(a) placing the treatment substrate in a standby position where the treatment substrate stands by before being transferred to a cooling unit and cooling the treatment substrate thereon in the standby positi

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Jones ; III Robert H. (Lafayette LA), Apparatus and method for the cryogenic treatment and heating of materials.
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  2. Shima Yoshisuke (Tokyo JPX), Continuous multistage thermal processing apparatus, freezing control method for use by the apparatus, and apparatus for.
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  3. Peter Fritz (Binzmhlestr. 405 CH-8046 Zrich CHX) Murialdo Gastonge (Gaggio di Bioggio CH-6981 Vernate CHX), Conveyor for cooling and removal of objects from an in-line sectional production machine.
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  4. Turner Virgil Q. (Sugarland TX) Light William D. (Richmond TX) Trevino Hilario T. (Needville TX) Guldi Richard L. (Dallas TX) Poag Frank (Plano TX) Paradis Douglas E. (Richardson TX), Enhanced cleansing process for wafer handling implements.
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  5. Usuiwa Mikio (Matsudo JPX) Shinkai Masanobu (Tokyo JPX) Fujishima Chisato (Matsudo JPX), Method of manufacturing shoes.
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  6. Garunts Feliks (1422 N. Tamarind Ave. ; Apt. #8 Los Angeles CA 90028) Darbinyan Robert (D17ur. Sundukyana #87 Yerevan 375012 ; Armenia SUX), Room air environment conditioner.
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이 특허를 인용한 특허 (28)

  1. Raaijmakers Ivo, Apparatus for cooling substrates.
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  2. Cox,Gerald, Apparatus for heating a substrate in a variable temperature process using a fixed temperature chuck.
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  3. Raaijmakers, Ivo, Apparatus for thermal treatment of substrates.
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  4. Lee,Sang Seok; Park,Sang Ho, Bonding device for manufacturing liquid crystal display device.
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  5. Englhardt, Eric A.; Rice, Michael R.; Hudgens, Jeffrey C.; Hongkham, Steve; Pinson, Jay D.; Salek, Mohsen; Carlson, Charles; Weaver, William T; Armer, Helen R., Cartesian cluster tool configuration for lithography type processes.
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  6. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Katwyk, Kirk Van; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Cartesian robot cluster tool architecture.
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  7. Ishikawa, Tetsuya; Roberts, Rick J.; Armer, Helen R.; Volfovski, Leon; Pinson, Jay D.; Rice, Michael; Quach, David H.; Salek, Mohsen S.; Lowrance, Robert; Backer, John A.; Weaver, William Tyler; Carlson, Charles; Wang, Chongyang; Hudgens, Jeffrey; Herchen, Harald; Lue, Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
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  8. Ishikawa, Tetsuya; Roberts, Rick J.; Armer, Helen R.; Volfovski, Leon; Pinson, Jay D.; Rice, Michael; Quach, David H.; Salek, Mohsen S.; Lowrance, Robert; Backer, John A.; Weaver, William Tyler; Carlson, Charles; Wang, Chongyang; Hudgens, Jeffrey; Herchen, Harald; Lue, Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
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  9. Ishikawa, Tetsuya; Roberts, Rick J.; Armer, Helen R.; Volfovski, Leon; Pinson, Jay D.; Rice, Michael; Quach, David H.; Salek, Mohsen S.; Lowrance, Robert; Backer, John A.; Weaver, William Tyler; Carlson, Charles; Wang, Chongyang; Hudgens, Jeffrey; Herchen, Harald; Lue, Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
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  10. Ishikawa,Tetsuya; Roberts,Rick J.; Armer,Helen R.; Volfovski,Leon; Pinson,Jay D.; Rice,Michael; Quach,David H.; Salek,Mohsen S.; Lowrance,Robert; Backer,John A.; Weaver,William Tyler; Carlson,Charles; Wang,Chongyang; Hudgens,Jeffrey; Herchen,Harald; Lue,Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
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  11. Volfovski, Leon; Ishikawa, Tetsuya, Cluster tool substrate throughput optimization.
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  12. Akimoto,Masami; Hayashi,Shinichi; Hayashida,Yasushi; Matsuoka,Nobuaki, Coating and developing apparatus and coating and developing method.
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  13. Albert Wang, End-effector with integrated cooling mechanism.
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  14. Sugawara, Yudo, Ion supply device and workpiece processing system provided with the same.
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  15. Ghanayem Steve G. ; Chandrachood Madhavi, Method and apparatus for reducing particle contamination during wafer transport.
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  16. Raaijmakers Ivo, Method of cooling wafers.
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  17. Cox, Gerald, Method of heating a substrate in a variable temperature process using a fixed temperature chuck.
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  18. Albert Wang, Rapid heating and cooling of workpiece chucks.
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  19. Yamagishi, Takayuki; Suwada, Masaei; Watanabe, Takeshi, Semiconductor processing apparatus comprising chamber partitioned into reaction and transfer sections.
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  20. Yamagishi,Takayuki; Suwada,Masaei; Watanabe,Takeshi, Semiconductor processing apparatus comprising chamber partitioned into reaction and transfer sections.
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  21. Thomas W. Aswad, Substrate cooling system.
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  22. Aswad, Thomas W., Substrate cooling system and method.
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  23. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Van Katwyk, Kirk; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Substrate processing sequence in a Cartesian robot cluster tool.
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  24. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Katwyk, Kirk Van; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool.
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  25. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Van Katwyk, Kirk; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool.
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  26. Aggarwal, Ravinder; Kusbel, Jim; Alexander, Jim, System for the improved handling of wafers within a process tool.
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  27. Aggarwal, Ravinder; Kusbel, James F., Transfer chamber with integral loadlock and staging station.
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  28. Lester, Paul; Meyer, Scott; Atkins, Wyland L.; Richards, Douglas; Predoaica, Constantin; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Kankanala, Penchala; Rice, Mike; Papanu, James S.; Baiya, Evanson G.; Rosato, John J., Wet clean system design.
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