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Method and apparatus for monitoring generation of liquid chemical vapor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 US-0922510 (1997-09-03)
발명자 / 주소
  • Schmitt John Vincent
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Konrad Raynes & Victor
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 4

초록

In a method and apparatus for producing a vapor containing a liquid chemical by bubbling a carrier gas through a mass of the liquid chemical, vapor production is monitored by: determining successive values of the pressure of the carrier gas being delivered to the mass of liquid chemical, over a time

대표청구항

[ I claim:] [1.] In a method for producing a vapor by bubbling a carrier gas through a mass of liquid, the improvement comprising:determining successive values of said pressure of said carrier gas being delivered to said mass of liquid over a time period; andcalculating the mass flow rate of said va

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Nicolai, Walter, Determining and indicating the quantity of a stored material.
  2. Lehmann Martin (Obere Farnbuhlstr. 1 5610 Wohlen CHX), Method of and apparatus for checking the volume of containers.
  3. Lehmann Martin,CHX, Method of and apparatus for checking the volume of containers.
  4. McMenamin Joseph C. (Fresno CA), Vapor mass flow control system.

이 특허를 인용한 특허 (9)

  1. Scholz,Christoph, Apparatus and process for refilling a bubbler.
  2. Daubs Maurice E. ; Murphy ; Jr. James H., High pressure quartz glass bubbler ampoule and assembly.
  3. Ravetz, Megan; Williams, Graham; Nelson, Andrew; Blunt, Roy Trevor; Williams, Howard; Odedra, Rajesh, Method and apparatus for delivering precursors to a plurality of epitaxial reactor sites.
  4. Nguyen Son T. ; Hendrickson Scott, Method and apparatus for generating controlled mixture of organic vapor and inert gas.
  5. Lee,Jai Dong; Hwang,Ki Hyun; Ko,Chang Hyun, Method and apparatus for supplying a source gas.
  6. Schmitt, John Vincent; Li, Shih-Hung; Marcadal, Christophe; Chang, Anzhong; Chen, Ling, Methods and apparatus for improved vaporization of deposition material in a substrate processing system.
  7. Forrest, Stephen R., Organic vapor jet printing system.
  8. Hattori, Nozomu, Raw material supply device.
  9. Rodgers, Donald B., System, apparatus and method for measuring and transferring the contents of a vessel.
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