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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0732691 (1996-10-18) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 192 인용 특허 : 26 |
A method for chemical-mechanical planarization of a substrate on a fixed-abrasive polishing pad in which a planarizing solution is dispensed onto the fixed-abrasive polishing pad. The planarizing solution is preferably an abrasive-free planarizing solution that oxidizes a surface layer on the substr
[ I claim:] [1.] A chemical-mechanical planarization method for removing material from a metal surface of a microelectronic substrate, comprising:providing a substantially abrasive-free planarizing solution having a chemical that oxidizes the material at the surface without passing the material into
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