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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0995989 (1997-12-22) |
우선권정보 | DE-0053992 (1996-12-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 0 |
Deaggregated highly disperse silicic acid, in which the average particle size is less than 100 nm, preferably less than 50 nm, is prepared by extremely high mechanical stress. The deaggregated silicic acid is employed as a filler in silicone rubber mixtures.
[ What is claimed as new and desired to be secured by Letters Patent of the United States is:] [1.] A process for deaggregating silicic acid, comprising:subjecting to mechanical stress a mixture comprising:(a) highly dispense silicic acid, and(b) at least one organosilicon compound which is liquid a
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