[특허]Apparatus for fabricating spherical shaped semiconductor integrated circuits

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Apparatus for fabricating spherical shaped semiconductor integrated circuits 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-016/00
출원번호	US-0996260 (1997-12-22)
발명자 / 주소	Ohkusa T.,JPX Ramamurthi Ram K.
출원인 / 주소	Ball Semiconductor, Inc.
대리인 / 주소	Haynes and Boone, L.L.P.
인용정보	피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 5

초록 ▼

An apparatus and method for fabricating integrated circuits according to which a plurality of members of a semiconductor material are continuously introduced into a chamber. A process gas is introduced into the chamber in a direction extending at an angle to the direction of passage of the members i

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] An apparatus for fabricating integrated circuits, the apparatus comprising an enclosure defining a chamber, a first inlet registering with the chamber for receiving a plurality of members of a semiconductor material, a second inlet registering with the chamber for receiving at least one gas for treating the members, the second inlet being oriented relative to the first inlet to direct the gas into the chamber at an angle to the direction of passage of the members into the chamber so that the gas contacts the members during the members' passage through the chamber, a first outlet registering with the chamber for receiving and discharging the members from the chamber, and a second outlet registering with the chamber for receiving and discharging the gas from the chamber.

이 특허에 인용된 특허 (5)

Mahawili Imad (Sunnyvale CA), Chemical vapor deposition reactor and method of operation.
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Deacon Thomas E. ; Cheung David ; Lee Peter Wai-Man ; Huang Judy H., Gas distribution for CVD systems.
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Young Lydia J. ; Matthiesen Richard H. ; Selitser Simon ; Os Ron van, Gas injection system for semiconductor processing.
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Schmitt Jerome J. (265 College St. (12N) New Haven CT 06510), Method and apparatus for the deposition of solid films of a material from a jet stream entraining the gaseous phase of s.
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Fuji Eiji,JPX ; Tomozawa Atsushi,JPX ; Torii Hideo,JPX ; Takayama Ryoichi,JPX, Process for producing oxide thin films and chemical vapor deposition apparatus used therefor.
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이 특허를 인용한 특허 (11)

Morrisroe, Peter, Boost devices and methods of using them.
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Morrisroe, Peter, Devices and systems including a boost device.
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Morrisroe, Peter, Devices and systems including a boost device.
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Morrisroe, Peter, Devices and systems including a boost device.
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Osborne, E. Wayne; Spangler, Michael V.; Allen, Levi C.; Geertsen, Robert J.; Ege, Paul E.; Stupin, Walter J.; Zeininger, Gerald, Fluid bed reactor.
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Osborne, E. Wayne; Spangler, Michael V.; Allen, Levi C.; Geertsen, Robert J.; Ege, Paul E.; Stupin, Walter J.; Zeininger, Gerald, Fluid bed reactor.
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Morrisroe, Peter J, Induction device.
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Morrisroe, Peter J, Induction device.
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Morrisroe, Peter J., Induction device.
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Morrisroe, Peter, Torches and methods of using them.
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Morrisroe, Peter J, Torches and methods of using them.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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