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Cleaning solution and cleaning method

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/04
  • B08B-003/12
출원번호 US-0780502 (1997-01-08)
우선권정보 JP-0005400 (1996-01-17)
발명자 / 주소
  • Masayuki Toda,JPX
  • Ohmi Tadahiro,JPX
  • Harada Yasuyuki,JPX
출원인 / 주소
  • Kabushiki Kaisha Ultraclean Technology Research Institute, JPX
대리인 / 주소
    Knuth
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 7

초록

A cleaning solution and cleaning method are provided which: (1) make treatment at room temperature possible, and do not require heating, (2) use little chemicals and water, (3) do not require specialized apparatuses, and moreover, (4) do not require the use of specialized chemicals. The cleaning sol

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A cleaning solution, comprising pure water containing 20 ppb-100 ppb of oxygen and 2 ppb or more of nitrogen, said pure water having impurities present at a level of 10 ppb or less.

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Mitsumori Kenichi,JPX ; Kasama Yasuhiko,JPX ; Yamanaka Koji,JPX ; Imaoka Takashi,JPX ; Ohmi Tadahiro,JPX, Apparatus and method for producing ionic water and system and method for producing electrolytic ionic water.
  2. Hirofuji Yuichi (Osaka JPX), Device and method of producing pure water.
  3. Guldi Richard L. (Dallas TX) Kunesh Robert F. (Plano TX), Method for rotational wafer cleaning in solution.
  4. Kogure Masahiko (Miyagi JPX), Method for vacuum deaeration.
  5. Obata Yoshinobu (Tokyo JPX) Orita Nobuhiro (Tokyo JPX) Kurobe Hiroshi (Tokyo JPX), Method of producing pure water.
  6. Ohashi Kenya (Hitachi JPX) Honda Takashi (Katsuta JPX) Furutani Yasumasa (Katsuta JPX) Kashimura Eizi (Naka JPX) Minato Akira (Hitachi JPX) Ohsumi Katsumi (Hitachi JPX), Method of reducing radioactivity in nuclear plant.
  7. Ohmi Tadahiro (1-17-301 ; Komegabukuro 2-chome ; Aoba-ku Miyagi-ken Sendai-shi 980 JPX), System for supplying ultrapure water and method of washing substrate, and system for producing ultrapure water and metho.

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Michael Jolley, Cleaning solutions and methods for semiconductor wafers.
  2. Ozawa, Suguru; Shinjo, Ryoichi; Harada, Minoru; Saito, Takayuki; Sasaki, Kenichi; Murakawa, Keiichi; Shimamura, Kazuhide, Gas dissolved water producing apparatus and method thereof and ultrasonic cleaning equipment and method thereof.
  3. Lauerhaas, Jeffrey M.; Nicolosi, Jr., Thomas J.; Mertens, Paul; Fyen, William, Megasonic cleaner and dryer.
  4. Lauerhaas,Jeffrey M.; Nicolosi, Jr.,Thomas J.; Mertens,Paul; Fyen,William, Megasonic cleaner and dryer.
  5. Hosack, Chad M.; Lauerhaas, Jeffrey M.; Bran, Mario E.; Standt, Raoul; Patel, Paul; Wu, Yi; Doumen, Geert; Mertens, Paul, Megasonic cleaner and dryer system.
  6. Nicolosi, Tom; Wu, Yi, Megasonic cleaner probe system with gasified fluid.
  7. Franklin, Cole S.; Wu, Yi; Fraser, Brian, Megasonic cleaning using supersaturated solution.
  8. Ohmi,Tadahiro; Shirai,Yasuyuki; Fujita,Takumi; Minami,Yukio; Ikeda,Nobukazu; Morimoto,Akihiro; Kawada,Koji, Rotary silicon wafer cleaning apparatus.
  9. Sawalski, Michael M., Soft-surface remediation device and method of using same.
  10. Nicolosi,Tom; Wu,Yi, Sonic-energy cleaner system with gasified fluid.
  11. Hosack, Chad M.; Patel, Paul; Standt, Raoul, Stackable process chambers.
  12. Masayuki Toda JP; Tadahiro Ohmi JP; Yoshio Ishihara JP, Transportation method for substrate wafers and transportation apparatus.
  13. Haibara, Teruo; Kubo, Etsuko; Mori, Yoshihiro; Uchibe, Masashi, Ultrasonic cleaning method and ultrasonic cleaning apparatus.
  14. Mori, Yoshihiro; Uchibe, Masashi; Haibara, Teruo; Kubo, Etsuko, Ultrasonic cleaning method and ultrasonic cleaning apparatus.
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