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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0049461 (1998-03-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 55 인용 특허 : 4 |
A system for providing uniform, controlled and efficient purge gas flow rates and gas flow patterns for removing contaminants and/or particulates from wafers within a pod. The purge system includes seals at the interfaces between the gas inlet and removal lines to substantially prevent leakage at th
[ We claim:] [1.] A purge system for providing a controlled and uniform flow of gas through a pod, comprising:an inlet to the pod capable of receiving a pressurized gas;an outlet from the pod capable of allowing gas to be drawn from the pod;a low pressure source for generating a negative pressure; a
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