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Semiconductor wafer storage apparatus and semiconductor device fabricating apparatus using said apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F24F-003/16
출원번호 US-0634316 (1996-04-18)
우선권정보 JP-0314068 (1995-12-01)
발명자 / 주소
  • Yamada Yoshiaki,JPX
  • Watanabe Hiroshi,JPX
출원인 / 주소
  • Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha, JPX
대리인 / 주소
    McDermott, Will & Emery
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 8

초록

A semiconductor wafer storage apparatus includes a wafer storage unit main body and a gas supply unit with a chemical filter, the gas supply unit being arranged independently of the wafer storage unit.

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A semiconductor device fabricating apparatus in a semiconductor device fabricating line, comprising:a first semiconductor wafer storing means, installed within a clean room, in which a gas is supplied from a gas supplying means located independently of said semiconductor

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise JPX) Kawano Hitoshi (Ise JPX), Automatic transferring system using portable closed container.
  2. Kinkead Devon A. (10 Hector Ave. Cumberland RI 02864) Rezuke Robert W. (127 Worcester Rd. North Grafton MA 01536) Higley John K. (14 Saddlebrook Rd. Sherborn MA 01770), Clean room air filtering.
  3. Iwasawa Yoshiyuki (Tokyo JPX) Ishida Tsutomu (Tokyo JPX) Harada Hiroshi (Tokyo JPX) Okamoto Kenji (Tokyo JPX) Kobayashi Shintaro (Tokyo JPX) Matsumoto Takashi (Ise JPX) Shinya Tsutomu (Ise JPX) Tanak, Dusttight storage cabinet apparatus for use in clean rooms.
  4. Kitano Junichi (Kofu JPX) Saitou Misako (Yamanashi JPX) Kakazu Yuji (Nirasaki JPX), Filter device.
  5. Gut Edward B. (Morton Grove IL) Orrico Mario M. V. (Chicago IL), Space static pressure control.
  6. Ono Yuji (Sagamihara JPX) Mihara Katsuhiko (Hachioji JPX), Treatment system including a plurality of treatment apparatus.
  7. Sakata Kazunari (Sagamihara JPX) Kadobe Masato (Tokyo JPX) Furuya Isao (Yokohama JPX) Watanabe Shingo (Kanagawa JPX) Fukushima Hiroki (Sagamihara JPX) Iwai Hiroyuki (Sagamihara JPX), Vertical type heat treatment system.
  8. Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise JPX) Kawano Hitoshi (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Tsuda Masanori (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise , Wafer airtight keeping unit and keeping facility thereof.

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Nakao, Tatsuo, Article storage system for a clean room.
  2. Renz Manfred,DEX, Clean room.
  3. Nakagawa, Toshiaki, Clean room for semiconductor device.
  4. Masahiko Minoshima JP, Cleanroom and cleanroom ventilation method.
  5. Bachrach, Robert Z., Compact apparatus and method for storing and loading semiconductor wafer carriers.
  6. Shin, Takeshi; Nishikawa, Tadashi; Takahara, Masahiro; Ueda, Toshihito, Inactive gas supply facility and inactive gas supply method.
  7. Schaefer, Wolf-Hasso, Intermediate storage unit for the intermediate storage of objects to be painted.
  8. Yoshimura, Takehiko; Nagata, Tatsuhiko; Seki, Masaru; Cho, Yoshinori, Load port.
  9. Ishikawa, Kazuhiro, Overhead transportation system and method of transferring article.
  10. Kim Beom-Soo,KRX, Reticle cleaning apparatus for wafer exposure system.
  11. Sakiya, Fumio, Sheet-like electronic component clean transfer device and sheet-like electronic component manufacturing system.
  12. Ellwanger, Harald, Storage configuration with predeterminable storage atmosphere.
  13. Ahn,Yo Han; Kim,Ki Doo; Lee,Soo Woong; Hwang,Jung Sung; Kim,Hyeog Ki, Substrate processing apparatus and method of processing substrate while controlling for contamination in substrate transfer module.
  14. Kishkovich, Oleg P.; Gabarre, Xavier; Goodwin, William M.; Lo, James; Scoggins, Troy, System for purging reticle storage.
  15. Komiyama, Kiyoshi, Ventilating method and ventilating system for semiconductor manufacturing apparatuses.
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