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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0729550 (1996-10-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 131 인용 특허 : 39 |
A gas curtain for use with a semiconductor processing system to prevent unwanted gases from entering a processing chamber. The gas curtain includes both upward and downward flows of gas surrounding an isolation valve adjacent a delivery port into the processing chamber. In the valve open position, t
[ What is claimed is:] [1.] A gas curtain apparatus for a wafer processing system, the system including a handling chamber and a reaction chamber with a delivery port therebetween having an isolation valve adapted for alternately opening and closing the port, comprising:a first series of apertures i
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