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Reactor having an array of heating filaments and a filament force regulator 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 US-0187497 (1998-11-06)
발명자 / 주소
  • Herlinger James E.
  • Studley David K.
  • Zimmer Jerry W.
출원인 / 주소
  • Sp.sup.3, Inc.
대리인 / 주소
    Moll
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 2

초록

An apparatus for adjusting the tension on a heating filament in a reactor used in carbon deposition on a substrate via chemical-vapor deposition is disclosed, as is a method for preventing breakage of the filaments during operation. The apparatus comprises a force regulator attached to an array of h

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A reactor, comprising:a first electrode;a movable electrode spaced from the first electrode;a heating filament array attached to the first electrode and to the movable electrode; anda force regulator coupled to the movable electrode to apply tension to the heating filamen

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Anthony Thomas R. (Schenectady NY) DeVries Robert C. (Burnt Hills NY) Engler Richard A. (Schenectady NY) Ettinger Robert H. (Schenectady NY) Fleischer James F. (Scotia NY), Apparatus for synthetic diamond deposition including curved filaments and substrate cooling means.
  2. Anthony Thomas R. (Schenectady NY) Engler Richard A. (Schenectady NY) Ettinger Robert H. (Schenectady NY) Fleischer James F. (Scotia NY) DeVries Robert C. (Burnt Hills NY), Apparatus for synthetic diamond deposition including spring-tensioned filaments.

이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Lee, Eric M.; Faguet, Jacques; Strang, Eric J., Apparatus for chemical vapor deposition control.
  2. Slutz,David E.; Finke,Steven J., CVD diamond-coated composite substrate containing a carbide-forming material and ceramic phases and method for making same.
  3. Kang, Hee-Cheol; Furuno, Kazuo; Kim, Han-Ki; Kim, Myoung-Soo, Catalyst enhanced chemical vapor deposition apparatus and deposition method using the same.
  4. Price Lewis, Hilton G.; White, Aleksandr J.; Stazinski, Michael E., Coated molds and related methods and components.
  5. Pryce Lewis, Hilton G.; White, Aleksandr J.; Stazinski, Michael E., Coated molds and related methods and components.
  6. Rueffer, Martin; Rosiwal, Stefan; Bareiss, Christian; Reichert, Walter; Lemmer, Oliver; Perle, Marc, Device and method for coating a substrate using CVD.
  7. Zimmer, Jerry W.; Buley, Todd W.; Stubbmann, Albert B., Fixed abrasive planarization pad conditioner incorporating chemical vapor deposited polycrystalline diamond and method for making same.
  8. Zhidan Li Tolt, Heating element for use in a hot filament chemical vapor deposition chamber.
  9. Nasman, Ronald; Faguet, Jacques, High temperature gas heating device for a vapor deposition system.
  10. Ogawa Yoichi,JPX ; Mizumura Tetsuo,JPX ; Yano Akira,JPX ; Kusada Hideo,JPX ; Kubota Takashi,JPX ; Asano Michio,JPX ; Wakai Kunio,JPX, Plasma CVD apparatus.
  11. Yoichi Ogawa JP; Tetsuo Mizumura JP; Akira Yano JP; Hideo Kusada JP; Takashi Kubota JP; Michio Asano JP; Kunio Wakai JP, Plasma CVD apparatus.
  12. Iizuka, Hachishiro, Plasma processing apparatus.
  13. Faguet, Jacques; Lee, Eric M., Vapor deposition system.
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