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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0133697 (1998-08-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 50 |
A method of removing etching residue from a substrate by contacting a substrate having etching residue present thereon with an etching residue remover derived from a mixture of at least hydroxylamine, an alkanolamine which is miscible with the hydroxylamine, water, and, optionally, a chelating agent
[ I claim:] [1.] A method of removing etching residue from a substrate, the method comprising contacting a substrate having etching residue present thereon with an etching residue remover at a temperature and for a time sufficient to remove the etching residue from the substrate, wherein the etching
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