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Method for automated calibration of temperature sensors in rapid thermal processing equipment 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01K-015/00
  • H01L-021/02
  • F27D-011/00
출원번호 US-0680244 (1996-07-10)
발명자 / 주소
  • Moslehi Mehrdad M.
  • Lee Yong Jin
출원인 / 주소
  • CVC Products, Inc.
대리인 / 주소
    Gray Cary Ware & Freidenrich, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 20  인용 특허 : 14

초록

This invention presents an automatic calibration system and method for calibration of a substrate temperature sensor in a thermal processing equipment, such as a rapid thermal processing system. The calibration system includes a temperature-sensitive probe associated with the substrate temperature s

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] An automatic calibration method for in-situ calibration of at least one substrate temperature sensor in a microelectronics manufacturing equipment for processing a substrate, comprising:extending at least one in-situ temperature-sensitive probe onto the substrate located

이 특허에 인용된 특허 (14)

  1. Crowley John L. (Fremont CA) Kermani Ahmad (Fremont CA) Lassig Stephan E. (Milpitas CA) Johnson Noel H. (San Jose CA) Rickords Gary R. (Fremont CA), Apparatus and method for compensating for errors in temperature measurement of semiconductor wafers during rapid thermal.
  2. Crowley John L. (Fremont CA) Kermani Ahmad (Sunnyvale CA) Lassig Stephan E. (Milpitas CA) Johnson Noel H. (San Jose CA) Rickords Gary R. (Fremont CA), Apparatus and method for compensating for errors in temperature measurement of semiconductor wafers during rapid thermal.
  3. Najm Habib N. (Dallas TX) Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX) Banerjee Somnath (Dallas TX) Velo Lino A. (Dallas TX), Apparatus and method for determining wafer temperature using pyrometry.
  4. Takahashi Mitsukazu (Kyoto JPX) Chiba Takatoshi (Kyoto JPX) Akiyoshi Katsuichi (Kyoto JPX), Apparatus for measuring the temperature of a substrate.
  5. Pecot Michel (Palo Alto CA) Nulman Jaim (Sunnyvale CA), Emissivity calibration apparatus and method.
  6. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX), Lamp-heated chuck for uniform wafer processing.
  7. Paranjpe Ajit P. (Plano TX), Method for temperature measurement in rapid thermal process systems.
  8. Peuse Bruce W. ; Miner Gary E. ; Yam Mark, Method of calibrating a temperature measurement system.
  9. Moslehi Mehrdad M., Rapid thermal processing high-performance multizone illuminator for wafer backside heating.
  10. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX), Real-time multi-zone semiconductor wafer temperature and process uniformity control system.
  11. Kobayashi Seishiro,JPX ; Nabei Akiyoshi,JPX ; Takashina Shuichi,JPX ; Fujishiro Takashi,JPX, Temperature measuring apparatus.
  12. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX), Temperature sensor calibration wafer structure and method of fabrication.
  13. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX) Najm Habib (Dallas TX) Velo Lino A. (Dallas TX), Wireless temperature calibration device and method.
  14. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX) Najm Habib (Dallas TX) Velo Lino A. (Dallas TX), Wireless temperature calibration device and method.

이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. Pfeifer, John Edward; Rising, Peter E., Ampoule analyzer apparatus.
  2. Sch철nlein,Artur; Dickert,Martin, Calibrating temperature sensors of weathering devices by means of contactless temperature measurement.
  3. Volf,Boris; Belousov,Mikhail; Gurary,Alexander, Calibration wafer and method of calibrating in situ temperatures.
  4. Volf,Boris; Belousov,Mikhail; Gurary,Alexander I., Calibration wafer and method of calibrating in situ temperatures.
  5. Norrbakhsh, Hamid; Welch, Mike; Luscher, Paul; Salimian, Siamak; Mays, Brad, Correction of wafer temperature drift in a plasma reactor based upon continuous wafer temperature measurements using an in-situ wafer temperature optical probe.
  6. John Edward Pfeifer ; William Frederick ; Alvaro Dedios, Incubation system for an analyzer apparatus.
  7. John Edward Pfeifer ; William Frederick ; Alvaro Dedios ; Stephen C. Fog, Light analyzer apparatus.
  8. Pfeifer, John Edward; Frederick, William; Dedios, Alvaro, Light analyzer apparatus.
  9. Epperson, David L.; Worones, Jeffrey; Rodriguez, Ricardo, Magnetically coupled ground reference probe.
  10. Neff, Edward A.; Vu, Toan M., Magnetically-latched actuator.
  11. Thadasina, Nivedan; Csapo, John; Gilliland, Paul, Method and system for synchronizing a clock for an adjacent network to a clock for an overlay network.
  12. Michael Kund DE, Method of holding a wafer and testing the integrated circuits on the wafer.
  13. Takaki Shunsuke,JPX, Method of measuring temperature.
  14. Lesher, Timothy E., Probe testing structure.
  15. Van Aerde, Steven R. A.; van der Jeugd, Cornelius A.; Oosterlaken, Theodorus G. M., Process for forming silicon-filled openings with a reduced occurrence of voids.
  16. Van Aerde, Steven R. A.; van der Jeugd, Cornelius A.; Oosterlaken, Theodorus G. M.; Huussen, Frank, Process for forming silicon-filled openings with a reduced occurrence of voids.
  17. Jaiswal,Rajneesh; Beach,Eric W.; Barnes,Barbara M., Rapid thermal anneal equipment and method using sichrome film.
  18. Ali Shajii ; Jeffrey P. Hebb, System and method for determining stray light in a thermal processing system.
  19. Haider Asad M., Ultra-clean wafer chuck assembly for moisture-sensitive processes conducted in rapid thermal processors.
  20. McCloud, Edward; VandenBerg, David, Wafer temperature measurement tool.
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