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Spherical shaped semiconductor integrated circuit 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-004/00
출원번호 US-0086872 (1998-05-29)
발명자 / 주소
  • Ishikawa Akira
출원인 / 주소
  • Ball Semiconductor, Inc.
대리인 / 주소
    Haynes & Boone, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 11  인용 특허 : 6

초록

A spherical shaped semiconductor integrated circuit ("ball") and a system and method for manufacturing same. The ball replaces the function of the flat, conventional chip. The physical dimensions of the ball allow it to adapt to many different manufacturing processes which otherwise could not be use

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A furnace comprising:a product inlet for receiving semiconductor granules;a heater section connected to the product inlet, wherein the temperature of the heater section exceeds the melting point of the semiconductor granules and provides substantially contactless movement

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Hsu George C. (La Crescenta CA) Levin Harry (Woodland Hills CA) Hogle Richard A. (Arcadia CA) Praturi Ananda (Monrovia CA) Lutwack Ralph (Sunland CA), Fluidized bed silicon deposition from silane.
  2. Heath William O. (Richland WA) Virden ; Jr. Judson W. (Richland WA) Richardson R. L. (West Richland WA) Bergsman Theresa M. (Richland WA), Method and apparatus for chemically altering fluids in continuous flow.
  3. Blouin Glenn M. (Florence AL), Method for applying coatings to solid particles.
  4. Kaneko Kyojiro (Osaka JPX) Mizumoto Hideyuki (Osaka JPX) Misawa Teruoki (Hyogo JPX), Method for producing silicon single crystal from polycrystalline rod formed by continous casting.
  5. Luthra Krishan L. (Schenectady NY) Spacil Henry S. (Tokyo JPX), Method of removing alkali metal contamination from a gaseous stream.
  6. Iya Sridhar K. (Vancouver WA), Reactor for fluidized bed silane decomposition.

이 특허를 인용한 특허 (11)

  1. Brossia, Christopher S.; Dunn, Darrell S., Apparatus and method for detecting the degradation of a coating using embedded sensors.
  2. Amano Katsumi,JPX ; Arai Tashiro,JPX, Apparatus and method for exchanging an atmosphere of spherical object.
  3. Amano Katsumi,JPX ; Arai Tashiro,JPX, Apparatus and method for exchanging an atmosphere of spherical object.
  4. Lee, Walter; Hipwell, Jr., Roger Lee; Bonin, Wayne Allen; Wissman, Barry Dean; Boutaghou, Zine-Eddine; Crane, Peter, Apparatus and method to passivate magnets and magnetic materials.
  5. Powell Karlton, Apparatus for producing uniform coating thickness on a spherical substrate.
  6. Osborne, E. Wayne; Spangler, Michael V.; Allen, Levi C.; Geertsen, Robert J.; Ege, Paul E.; Stupin, Walter J.; Zeininger, Gerald, Fluid bed reactor.
  7. Osborne, E. Wayne; Spangler, Michael V.; Allen, Levi C.; Geertsen, Robert J.; Ege, Paul E.; Stupin, Walter J.; Zeininger, Gerald, Fluid bed reactor.
  8. Takahiro Horiuchi JP; Kiyofumi Morimoto JP, Method and apparatus for modifying particles.
  9. Shoei Kurosaka,JPX, Method and device for manufacturing spherical semiconductor crystals.
  10. Nishiyama,Tousaku; Ishimaru,Yukihiro; Sugaya,Yasuhiro; Asahi,Toshiyuki; Karashima,Seiji, Mount assembly, optical transmission line and photoelectric circuit board.
  11. Takaishi,Masakatsu, Spherical shaped semiconductor device, a flexible printed wiring substrate, and mounting method thereof.
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