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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0942540 (1997-10-01) |
우선권정보 | AT-0001734 (1996-10-01) |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 32 인용 특허 : 9 |
To dry semiconductor substrates, especially silicon wafers subsequent to rinsing after etching, the substrate is exposed to the action of radiation which contains an IR portion and a UV portion, the IR portion being greater than the UV portion. The IR-UV radiation quickly dries the substrate and pre
[ I claim:] [1.] A drying process for semiconductor substrates comprising the step of:treating a substrate with radiation which comprises an infrared radiation component and an ultraviolet radiation component, wherein the ratio of the infrared radiation component to the ultraviolet radiation compone
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