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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0050259 (1998-03-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 13 |
A method of processing semiconductor manufacturing exhaust gases for recovering at least hexafluoroethane in which a feed stream composed of the exhaust gases is passed through an adsorbent bed selected to adsorb oxygen, and also nitrogen if present, but not to appreciably adsorb the hexafluoroethan
[ What is claimed is:] [1.] A method of processing semiconductor manufacturing exhaust gases for recovering at least hexafluoroethane, said method comprising:introducing a feed stream originating from a semiconductor processing chamber to an adsorbent bed, said feed stream made-up of said semiconduc
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