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Coating film excellent in resistance to halogen-containing gas corrosion and halogen-containing plasma corrosion, laminated structure coated with the same, and method for producing the same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/08
출원번호 US-0849123 (1997-06-03)
우선권정보 JP-0256586 (1995-10-03)
국제출원번호 PCT/JP96/02887 (1996-10-03)
§371/§102 date 19970603 (19970603)
발명자 / 주소
  • Yamamoto Seigo,JPX
  • Itayama Katsuhiro,JPX
  • Ikeda Kouki,JPX
  • Hisamoto Jun,JPX
  • Onishi Takashi,JPX
출원인 / 주소
  • Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho, JPX
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 3

초록

More specifically, the coating film includes an aluminum oxide as an essential material and silicon-containing material, and the coating film has such a tightness that the content of the silicon-containing material is 5 wt % or less when reduced to silicon. In other word, the coating film has no pea

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A film comprising aluminum oxide and a silicon-containing material as an impurity, wherein the content of the silicon-containing material is 5 wt % or less when reduced to silicon, and wherein said film has no peak of a half-value width of 5.degree. or less in X-ray diffr

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Szczyrbowski Joachim (Goldbach DEX) Hartig Klaus (Ronneburg DEX) Lohwasser Wolfgang (Wettenberg DEX), Coating, composed of an optically effective layer system, for substrates, whereby the layer system has a high anti-refle.
  2. Iida Yasunobu (Matsusaka JPX) Nakamura Masato (Mie Prefecture JPX) Takeuchi Nobuyuki (Ise JPX) Onishi Keiji (Matsusaka JPX), Neat reflecting glass with multilayer coating.
  3. Belkind Abraham I. (North Plainfield NJ) Bjornard Erik (Concord CA) Hofmann James J. (Hackettstown NJ) Jacobson Donald V. (Concord CA) Nadel Steven J. (Oakland CA), Transparent coatings by reactive sputtering.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Jun Hisamoto JP; Hiroo Shige JP; Koichi Hayashi JP, Anodic oxide layer and ceramic coating for aluminum alloy excellent in resistance to gas and plasma corrosion.
  2. Araki, Kiyoshi, Corrosion-resistant member and method of producing the same.
  3. Ohmi, Tadahiro; Hirayama, Masaki; Goto, Tetsuya; Shirai, Yasuyuki; Kitano, Masafumi; Watanuki, Kohei; Matsuoka, Takaaki; Murakawa, Shigemi, Microwave plasma processing apparatus, dielectric window for use in the microwave plasma processing apparatus, and method for manufacturing the dielectric window.
  4. Sun, Jennifer Y.; Duan, Ren-Guan; Yuan, Jie; Xu, Li; Collins, Kenneth S., Semiconductor processing apparatus comprising a solid solution ceramic formed from yttrium oxide, zirconium oxide, and aluminum oxide.
  5. Sun, Jennifer Y.; Duan, Ren-Guan; Yuan, Jie; Xu, Li; Collins, Kenneth S., Semiconductor processing apparatus with a ceramic-comprising surface which exhibits fracture toughness and halogen plasma resistance.
  6. O'Donnell, Robert J.; Chang, Christopher C.; Daugherty, John E., Zirconia toughened ceramic components and coatings in semiconductor processing equipment and method of manufacture thereof.
  7. O'Donnell,Robert J.; Chang,Christopher C.; Daugherty,John E., Zirconia toughened ceramic components and coatings in semiconductor processing equipment and method of manufacture thereof.
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