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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0786410 (1997-01-21) |
우선권정보 | JP-0006964 (1996-01-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 36 인용 특허 : 7 |
By using a dual ion-beam sputtering apparatus, an aluminum thin-film is formed on a glass substrate made of an amorphous material. While radiating an ion beam for assisting the film formation from an ion source onto the glass substrate, the aluminum thin-film is formed by depositing the sputtering i
[ What is claimed is:] [1.] A method of forming a thin film electrode for use in a surface acoustic wave device, said method comprising the steps of:forming an amorphous layer of an electrode material on a surface of a piezoelectric substrate while irradiating said surface of the piezoelectric subst
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