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Processing system having vacuum manifold isolation 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G05D-016/00
출원번호 US-0138174 (1998-08-21)
발명자 / 주소
  • Guertin Ronald R.
출원인 / 주소
  • Fairchild Semiconductor Corp.
대리인 / 주소
    Atwood
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 15

초록

An additional isolation valve is incorporated into a vacuum processing system to increase the life of the system's mechanical pump, reduce maintenance costs and downtime, prevent particle back streaming and reduce safety risks to maintenance technicians. The system has a process chamber with at leas

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A processing system comprising:a process chamber having at least one port;a foreline valve connected to said at least one port;a vacuum manifold in fluid communication with said foreline valve;a pump connected to said vacuum manifold; andan isolation valve connected betwe

이 특허에 인용된 특허 (15)

  1. Engelmann Lester B. (Woodland CA), Apparatus and method for automatically disabling pressure relief valve of backflow preventer.
  2. Sherman Arthur (Palo Alto CA), Apparatus and method for high rate deposition and etching.
  3. Nishimura Ryutaro (Osaka JPX), Block valve with tank chamber.
  4. Matsushita Yoshinari (Hirakata JPX) Fukumoto Kenji (Hirakata JPX), Chemical vapor deposition reaction apparatus having isolated reaction and buffer chambers.
  5. Nath Prem (Rochester Hills MI) Call Jon (Royal Oak MI) Didio Gary M. (Highland MI) Hoffman Kevin (Sterling Heights MI), Chemically active isolation passageway for deposition chambers.
  6. Roberson ; Jr. Glenn A. (Hollister CA) Genco Robert M. (Atlanta GA) Mundt G. Kyle (Duluth GA), Docking and environmental purging system for integrated circuit wafer transport assemblies.
  7. Waletzko Alfred (Zum Berger See 137 5820 Gevelsberg DEX), Isolating and backflow preventing valve assembly.
  8. Jakubiec Antoni F. (San Mateo CA) Daley Thomas M. (San Jose CA), Isolation valve for vacuum and non-vacuum application.
  9. Pawelka Gerhard E. F. (Lexington MA) Stringer Christopher J. (San Francisco CA) Marsh Matthew (San Francisco CA) Karshmer David L. (San Francisco CA) Lada Christopher O. (Palo Alto CA) Schoenberg Ste, Manifold medication injection apparatus and method.
  10. Canady Mickey Lynn (Rochester MN) Edmonson David Alvoid (Rochester MN) Johnson Gary James (Rochester MN) Teig Paul David (Byron MN) Wall Arthur Carl (Rochester MN), Method and apparatus for coating thin film data storage disks.
  11. Chen Ping I. (Chung Li TWX), Particle contamination apparatus for semiconductor wafer processing.
  12. Kinney Calvin L. (Penn Hills PA) Wetherill Todd M. (Lower Burrell PA granted to U.S. Department of Energy under the provisions of 42 U.S.C. 2182), Pump isolation valve.
  13. Krueger Gordon P. (San Jose CA), Reducing particulates during semiconductor fabrication.
  14. Oh Hyun-Don,KRX ; Lee Heung-Bok,KRX, Semiconductor fabricating apparatus having vacuum control and detection system.
  15. Rosenlund Thomas Theodore (Stillwater MN) Peters David George (Oakdale MN), Sterilizer with gas control.

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Yokomizo,Kenji, Apparatus and method of securing a workpiece during high-pressure processing.
  2. Holland, John; Barnes, Michael; Mak, Steve S. Y.; Leahey, Patrick; Mohn, Jonathan D., Compact independent pressure control and vacuum isolation for a turbomolecular pumped plasma reaction chamber.
  3. Jones,William Dale, Control of fluid flow in the processing of an object with a fluid.
  4. Doi, Ryosuke; Nishioka, Takanori; Takeoka, Kohei; Sawanoi, Yukiya; Hachimaru, Izumi; Yanagase, Masataka; Horibata, Kenichi, Electronic sphygmomanometer.
  5. Sheydayi,Alexei; Sutton,Thomas, Gate valve for plus-atmospheric pressure semiconductor process vessels.
  6. Jones, William D., High pressure fourier transform infrared cell.
  7. Biberger,Maximilian A.; Layman,Frederick Paul; Sutton,Thomas Robert, High pressure processing chamber for semiconductor substrate.
  8. Jones,William Dale, High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer.
  9. Chou, You-Hua; Chen, Shih-Hung; Chiou, Jian-Huah, Mechanisms for processing wafer.
  10. Goshi,Gentaro, Method and apparatus for cooling motor bearings of a high pressure pump.
  11. Pfeiffer, Kenneth; Verdict, Gregory S., Methods and apparatus for maintaining a pressure within an environmentally controlled chamber.
  12. Wuester,Christopher D., Process flow thermocouple.
  13. Jacobson,Gunilla; Yellowaga,Deborah, Treatment of a dielectric layer using supercritical CO.
  14. Hilzendegen, Philipp; Bruck, Peter; Dehlinger, Dominique, Valve for valve assembly.
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