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Apparatus for sensing low concentration NOx, chamber used for apparatus for sensing low concentration NOx; gas sensor element and method of manufacturing the same; and ammonia removing apparatus and 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-024/04
출원번호 US-0063471 (1998-04-20)
우선권정보 JP-0307090 (1997-11-10)
발명자 / 주소
  • Yoshida Toshihiro,JPX
  • Ogawa Naoyuki,JPX
  • Takahashi Tomonori,JPX
  • Ohtsubo Shinji,JPX
출원인 / 주소
  • NGK Insulators, Ltd., JPX
대리인 / 주소
    Wall Marjama Bilinski & Burr
인용정보 피인용 횟수 : 11  인용 특허 : 12

초록

The disclosed apparatus for sensing low concentration NOx in a measurement gas especially in the atmosphere has at least a sensor element made of an oxide arranged in a flow path of the measurement gas, the resistance of the sensor element varying in response to changes in NOx concentration in the m

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A chamber used for an apparatus for sensing low concentration NOx in a measurement gas having, a catalyst arranged to maintain partial pressures of NO and NO.sub.2 in the measurement gas at an equilibrium state, and first and second sensor elements arranged in a flow path

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Wolfson Jack Mikhail ; Koutrakis Petros, Continuous measurement of particulate nitrate.
  2. Koutrakis Petros (Wellesley MA) Ferguson Stephen T. (W. Concord MA) Wolfson Jack M. (Jamaica Plain MA), Denuder for gas sampling.
  3. Chang Shih-Chia (Troy MI), Detecting NOx using thin film zinc oxide semiconductor.
  4. Sasaki Kazuko (Minoo JPX), Exhaust gas sensor and process for producing same.
  5. Kusanagi Shigekazu (Katano JPX) Akiyama Shigeo (Kadoma JPX) Nobutani Tohru (Osaka JPX), Gas detector.
  6. Takami Akio (Aichi JPX) Matsuura Toshitaka (Aichi JPX) Furusaki Keizo (Aichi JPX), Gas sensing element.
  7. Sunano Naomasa (Akashi JPX) Asahi Naotatsu (Katsuta JPX) Yoshida Toshio (Kasukabe JPX), Gas sensor and method of producing the same.
  8. Nolting Peter (Buehlertal DEX) Holland Martin (Merzhausen DEX) Ziegenbein Botho (Reutlingen DEX) Stecher Guenther (Leonberg DEX) Baresel Detlef (Stuttgart DEX), Hot gas sensor device with improved thermal isolation from carrier plate.
  9. Barden James D. (Chester MD), Method and apparatus for analysis of total atmospheric sulfuric acid content.
  10. Koocher Martin (Lexington MA) Siemers Nathan O. (Allston MA), Methods and apparatus for detecting an analyte of interest capable of being converted into a carbonyl-containing composi.
  11. Satake Kazuko (Yokohama JPX), Module and device for detecting NOX gas.
  12. Takahashi Tomonori,JPX ; Ogawa Naoyuki,JPX ; Yoshida Toshihiro,JPX ; Katsuda Yuji,JPX, NOx sensor.

이 특허를 인용한 특허 (11)

  1. Surnilla,Gopichandra; Soltis,Richard E.; Visser,Jacobus H.; Thomas,Joseph; Kubinski,David, Control system with a sensor.
  2. Fix, Richard; Widenmeyer, Markus; Martin, Alexander; Elbe, Dieter, Field effect transistor gas sensor having a housing and porous catalytic material contained therein.
  3. Bristol, L. Rodney, Gas measuring device and method of operating the same.
  4. Marra, Johan; Klootwijk, Johan Hendrik; Giesbers, Jacobus Bernardus; De Wild, Nico Maris Adriaan; Bulder, Marcel; Niessen, Rogier Adrianus Henrica; Van Der Linde, Peter, Gas sensing apparatus.
  5. Doncaster, Alan Mason; Brown, Terence David, Gas sensors.
  6. Muzio, Lawrence J.; Smith, Randall A., In-line localized monitoring of catalyst activity in selective catalytic NOreduction systems.
  7. Hoyer, Knut; Kaufmann, Andreas; Munch, Reinhold; Springmann, Thomas, Method and device for measuring NOx concentration using measurements of NOx and a second gas component.
  8. Lahr, Jochen, Method for processing measured values from a nitrogen oxide sensor.
  9. Koulikov, Serguei, Mitigation of gas memory effects in gas analysis.
  10. Schneider,Claus; Trunk,Ralph; Pfitzner,Lothar; Schmid,Heinz, Particle measurement configuration and semiconductor wafer processing device with such a configuration.
  11. Wohltjen, Henry, System and method for limiting sensor exposure to ozone.
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