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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0166513 (1998-10-05) |
우선권정보 | DE-0043922 (1997-10-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 4 |
Disclosed herein is a method and a reactor system for CVD surface coating. In this method, the reaction gas is supplied to the reactor chamber with any frequency and at any time intervals in succession, rising and falling in the form of a pulsed gas stream. The reversal of the gas flow direction is
[ What is claimed is:] [1.] Method for CVD surface coating, comprising:introducing gaseous substances in a CVD reactor chamber in a first flow direction, said substances precipitating onto other materials; andreversing the flow direction, whereby successively alternating the flow direction creates a
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