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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0016752 (1998-01-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 3 |
An autoclave is disclosed which includes direct heating and improved access. The autoclave includes a heating system which is placed directly into the pressurized chamber such that materials which are placed directly into the autoclave are directly heated. The autoclave includes doors which are disp
[ I claim:] [1.] A method for applying heat and pressure to semiconductor wafers comprising:providing a pressure vessel having an opening disposed therein and having an inside surface and an outer surface;providing a cassette tray disposed within said pressure vessel;providing a robotic system coupl
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