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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0039824 (1998-03-16) |
우선권정보 | JP-0068201 (1997-03-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 79 인용 특허 : 2 |
A unit arrangement part comprises a chemical cabinet on its lowermost part, while coating units for forming a resist film on a substrate and developing units for developing the substrate after exposure are arranged on four corners of an apparatus above the chemical cabinet. Further, multistage therm
[ We claim:] [1.] An apparatus for processing a substrate, comprising:a) substrate transport means being vertically movable and rotatable about a vertical axis;b) a plurality of wet processing units being arranged around said substrate transport means for processing said substrate with prescribed pr
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