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Planarized base assembly and flat panel display device using the planarized base assembly 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-001/62
  • H01J-063/04
  • H01J-001/02
  • H01J-001/16
출원번호 US-0742667 (1996-11-05)
발명자 / 주소
  • Carpenter Craig M.
출원인 / 주소
  • Micron Display Technology, Inc.
대리인 / 주소
    Nixon & Vanderhye P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 19

초록

A base structure for use with a flat panel field emission display device. A spacer layer is provided in the base assembly to generally planarize the base assembly prior to mechanical planarization. As a result, the base assembly is more reliable and permits improved manufacturing yields. In addition

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A planarized base assembly for use in a flat panel display comprising:a base;a first conductive layer formed over first portions of said base;a resistive layer formed over second portions of said base, said second portions overlapping said first portions at least in part,

이 특허에 인용된 특허 (19)

  1. Hush Glen F. (Boise ID), Active matrix field emission display having peripheral regulation of tip current.
  2. Browning Jim J. (Boise ID) Lee John K. (Boise ID), Architecture for isolating display grid sections in a field emission display.
  3. Lee John K. (Boise ID) Casper Stephen L. (Boise ID) Lowrey Tyler A. (Boise ID), Current-regulated field emission cathodes for use in a flat panel display in which low-voltage row and column address si.
  4. Cathey David A. (Boise ID) Rolfson J. Brett (Boise ID) Lowrey Tyler A. (Boise ID) Doan Trung T. (Boise ID), Field emission structures produced on macro-grain polysilicon substrates.
  5. Takagi Toshinori,JPX ; Taniguchi Masateru,JPX ; Itoh Shigeo,JPX ; Watanabe Teruo,JPX ; Niiyama Takahiro,JPX, Field emission type electron source.
  6. Browning Jim J. (Boise ID), Flat panel display drive circuit with switched drive current.
  7. Tuttle Mark E. (Boise ID) Doan Trung T. (Boise ID) Fox Angus C. (Boise ID) Sandhu Gurtej S. (Boise ID) Stroupe Hugh E. (Boise ID), Method and apparatus for improving planarity of chemical-mechanical planarization operations.
  8. Dennison Charles H. (Boise ID), Method for fabrication of close-tolerance lines and sharp emission tips on a semiconductor wafer.
  9. Cathey David A. (Boise ID) Tjaden Kevin (Boise ID), Method for forming a substantially uniform array of sharp tips.
  10. Reinberg Alan R. (Westport CT) Rhodes Howard E. (Boise ID), Method of creating sharp points and other features on the surface of a semiconductor substrate.
  11. Lowrey Tyler A. (Boise ID) Doan Trung T. (Boise ID) Cathey David A. (Boise ID) Rolfson J. Brett (Boise ID), Method to form high aspect ratio supports (spacers) for field emission display using micro-saw technology.
  12. Doan Trung T. (Boise ID) Lowrey Tyler A. (Boise ID) Cathey David A. (Boise ID) Rolfson J. Brett (Boise ID), Method to form self-aligned gate structures and focus rings.
  13. Doan Trung T. (Boise ID) Rolfson J. Brett (Boise ID) Lowrey Tyler A. (Boise ID) Cathey David A. (Boise ID), Method to form self-aligned gate structures around cold cathode emitter tips using chemical mechanical polishing technol.
  14. Sandhu Gurtej S. (Boise ID), Method to form self-aligned tips for flat panel displays.
  15. Farnworth Warren M. (Boise ID), Micro-pillar fabrication utilizing a stereolithographic printing process.
  16. Liu David N.-C. (Fong-Yuan TWX), Narrow gate opening manufacturing of gated fluid emitters.
  17. Cathey David A. (Boise IA) Yu Chris C. (Boise IA) Doan Trung T. (Boise IA) Lowrey Tyler A. (Boise IA) Rolfson J. Brett (Boise IA), Spacers for field emission display fabricated via self-aligned high energy ablation.
  18. Cathey David A. (Boise ID) Hofmann James J. (Boise ID) Dynka Danny (Boise ID) Stansbury Darryl M. (Boise ID), Spacers for large area displays.
  19. Orihashi Ritsuro (Yokohama JPX) Kendo Kosuke (Yokohama JPX) Hayashi Yoshihiko (Yokosuka JPX), .

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Ammar Derraa, Field emission arrays and method of fabricating emitter tips and corresponding resistors thereof with a single mask.
  2. Derraa, Ammar, Field emission arrays for fabricating emitter tips and corresponding resistors thereof with a single mask.
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