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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0022057 (1998-02-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 39 |
In summary, the vertical rapid cooling furnace of this invention for treating semiconductor wafers with self contained gas chilling and recycling comprises a hot wall reaction tube positioned within a cylindrical array of heating coils. Space between the hot wall reaction tube and said array of heat
[ The invention claimed is:] [1.] A vertical rapid cooling furnace for treating semiconductor wafers with self contained gas chilling and recycling comprising:a hot-wall reaction tube positioned within a cylindrical array of heating coils, spacing between the hot wall reaction tube and said array of
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