최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0850874 (1997-05-02) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 38 인용 특허 : 11 |
Apparatus and methods for removing particles from a surface of a semiconductor wafer or optical component using a carbon dioxide snow spray directed at the wafer or component while simultaneously irradiating the surface with a laser beam. The apparatus comprises a carbon dioxide jet spray cleaning s
[ What is claimed is:] [1.] Apparatus for cleaning a surface of a wafer or component, comprising:a processing system comprising a moving web;an environmental cleaning station disposed adjacent to the moving web and through which the web moves, and which comprises a recirculating blower system, a lam
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.