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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0023290 (1998-02-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 82 인용 특허 : 0 |
An apparatus and method for drying a microelectronic structure on wafer substrate using supercritical phase gas techniques and a unique pressure vessel locking mechanism. There is lid and a base with an open cavity to contain at least one microelectronic structure on wafer substrate. Clamping the li
[ What is claimed is:] [1.] An apparatus for drying a microelectronic structure on wafer substrate, comprisinga pressure vessel with a lid and a base with an open cavity, said cavity being of uniform diameter and constant depth sufficient to contain at least one said microelectronic structure on waf
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